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■ 2021年 出願公開件数ランキング 第108位 369件 (2020年:第107位 385件)
■ 2021年 特許取得件数ランキング 第76位 336件 (2020年:第118位 239件)
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特開 2021-136295 | 基板処理装置 | 2021年 9月13日 | |
特開 2021-136367 | 基板処理装置 | 2021年 9月13日 | |
特開 2021-136369 | 基板処理方法 | 2021年 9月13日 | |
特開 2021-136373 | 基板処理装置および基板処理方法 | 2021年 9月13日 | |
特開 2021-136376 | 熱処理方法 | 2021年 9月13日 | |
特開 2021-136408 | 基板処理装置 | 2021年 9月13日 | |
特開 2021-136418 | 基板処理装置および基板処理方法 | 2021年 9月13日 | |
特開 2021-136420 | 基板処理方法および基板処理装置 | 2021年 9月13日 | |
特開 2021-136421 | 基板処理装置 | 2021年 9月13日 | |
特開 2021-136422 | 基板処理装置 | 2021年 9月13日 | |
特開 2021-136429 | シリコンエッチング液、該エッチング液を用いたシリコンデバイスの製造方法および基板処理方法 | 2021年 9月13日 | |
特開 2021-136435 | 基板処理装置 | 2021年 9月13日 | |
特開 2021-129888 | 塗布装置および塗布方法 | 2021年 9月 9日 | |
特開 2021-131180 | 乾燥装置、および乾燥方法 | 2021年 9月 9日 | |
特開 2021-131500 | 配線パターン生成装置、描画システム、配線パターン生成方法および配線パターン生成プログラム | 2021年 9月 9日 |
373 件中 121-135 件を表示
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2021-136295 2021-136367 2021-136369 2021-136373 2021-136376 2021-136408 2021-136418 2021-136420 2021-136421 2021-136422 2021-136429 2021-136435 2021-129888 2021-131180 2021-131500
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11月27日(水) - 東京 港区
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11月28日(木) - 京都 京都市
11月28日(木) -
11月28日(木) - 大阪 大阪市
11月28日(木) -
11月29日(金) - 東京 港区
11月29日(金) - 茨城 ひたちなか市
11月30日(土) -
12月1日(日) -
12月1日(日) -
11月25日(月) -
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