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■ 2020年 出願公開件数ランキング 第107位 385件
(
2019年:第120位 389件)
■ 2020年 特許取得件数ランキング 第118位 239件
(
2019年:第98位 282件)
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| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特開 2020-201424 | 光学ユニット、レーザー加工装置および光抽出方法 | 2020年12月17日 | |
| 特開 2020-196644 | AlNバッファー層を備えるテンプレート基板および窒化物半導体素子ならびにそれらの製造方法 | 2020年12月10日 | |
| 特開 2020-196934 | プラズマ処理装置 | 2020年12月10日 | |
| 特開 2020-197596 | 空間光変調器、描画装置、空間光変調方法 | 2020年12月10日 | |
| 特開 2020-198339 | 基板処理装置および基板処理方法 | 2020年12月10日 | |
| 特開 2020-198352 | 基板処理装置、基板処理システム及び基板処理方法 | 2020年12月10日 | |
| 特開 2020-198356 | 基板処理方法および基板処理装置 | 2020年12月10日 | |
| 特開 2020-198357 | 基板処理装置および基板処理方法 | 2020年12月10日 | |
| 特開 2020-194836 | 基板処理装置、基板処理方法およびプログラム | 2020年12月 3日 | |
| 特開 2020-194907 | 昇華性物質含有液の製造方法、基板乾燥方法、および基板処理装置 | 2020年12月 3日 | |
| 特開 2020-194908 | 熱処理方法および熱処理装置 | 2020年12月 3日 | |
| 特開 2020-194909 | 基板処理方法および基板処理装置 | 2020年12月 3日 | |
| 特開 2020-194944 | 熱処理方法および熱処理装置 | 2020年12月 3日 | |
| 特開 2020-194946 | 基板処理方法および基板処理装置 | 2020年12月 3日 | |
| 特開 2020-194950 | 基板処理方法および基板処理装置 | 2020年12月 3日 |
389 件中 1-15 件を表示
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2020-201424 2020-196644 2020-196934 2020-197596 2020-198339 2020-198352 2020-198356 2020-198357 2020-194836 2020-194907 2020-194908 2020-194909 2020-194944 2020-194946 2020-194950
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