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■ 2021年 出願公開件数ランキング 第108位 369件 (2020年:第107位 385件)
■ 2021年 特許取得件数ランキング 第76位 336件 (2020年:第118位 239件)
(ランキング更新日:2025年1月31日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特開 2021-194252 | 粒状物搬送装置、粒状物印刷装置、および粒状物搬送方法 | 2021年12月27日 | |
特開 2021-193697 | 基板処理方法および基板処理装置 | 2021年12月23日 | |
特開 2021-192463 | 基板洗浄装置および基板洗浄方法 | 2021年12月16日 | |
特開 2021-190469 | 熱処理装置および熱処理方法 | 2021年12月13日 | |
特開 2021-190511 | 基板処理方法および基板処理装置 | 2021年12月13日 | |
特開 2021-190530 | 基板処理装置、基板処理方法、学習用データの生成方法、学習方法、学習装置、学習済モデルの生成方法、及び学習済モデル | 2021年12月13日 | |
特開 2021-190541 | 基板処理装置、基板処理方法、学習用データの生成方法、学習方法、学習装置、学習済モデルの生成方法、および、学習済モデル | 2021年12月13日 | |
特開 2021-190552 | 熱処理装置 | 2021年12月13日 | |
特開 2021-190559 | 基板処理方法、および、基板処理装置 | 2021年12月13日 | |
特開 2021-190561 | 基板処理方法および基板処理装置 | 2021年12月13日 | |
特開 2021-190572 | 周縁部塗布装置および周縁部塗布方法 | 2021年12月13日 | |
特開 2021-185631 | 熱処理方法および熱処理装置 | 2021年12月 9日 | |
特開 2021-184067 | 光走査装置、対象物認識装置および光走査方法 | 2021年12月 2日 | |
特開 2021-184418 | 基板処理装置、および、基板処理方法 | 2021年12月 2日 | |
特開 2021-182433 | 基板処理方法および基板処理装置 | 2021年11月25日 |
373 件中 1-15 件を表示
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2021-194252 2021-193697 2021-192463 2021-190469 2021-190511 2021-190530 2021-190541 2021-190552 2021-190559 2021-190561 2021-190572 2021-185631 2021-184067 2021-184418 2021-182433
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