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■ 2020年 出願公開件数ランキング 第403位 90件
(2019年:第449位 82件)
■ 2020年 特許取得件数ランキング 第277位 100件
(2019年:第350位 76件)
(ランキング更新日:2025年2月21日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
---|---|---|---|
特開 2020-204566 | 光学測定装置および光学測定方法 | 2020年12月24日 | |
特開 2020-201140 | 吸光度計 | 2020年12月17日 | |
再表 2019-130837 | 投影システム | 2020年12月 3日 | |
特開 2020-188738 | マイクロチップ | 2020年11月26日 | |
特開 2020-188889 | 気体処理装置及び気体処理方法 | 2020年11月26日 | |
特開 2020-188897 | 気体処理装置 | 2020年11月26日 | |
特開 2020-190498 | 広帯域パルス光源装置、分光測定装置及び分光測定方法 | 2020年11月26日 | |
特開 2020-190521 | 表面プラズモン共鳴センサ装置 | 2020年11月26日 | |
特開 2020-190522 | マイクロプレートリーダー | 2020年11月26日 | |
特開 2020-190564 | 光学測定システム及び光学セル | 2020年11月26日 | |
特開 2020-191342 | 導電性パターンを有する基板、及びその製造方法 | 2020年11月26日 | |
特開 2020-185103 | 作業室の無菌環境維持方法、無菌環境維持装置 | 2020年11月19日 | |
特開 2020-185509 | パターン構造含有シートの製造方法 | 2020年11月19日 | |
特開 2020-185531 | エキシマ光照射装置 | 2020年11月19日 | |
特開 2020-185532 | 紫外線照射装置、及びこれを備えた気体処理装置 | 2020年11月19日 |
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2020-204566 2020-201140 2019-130837 2020-188738 2020-188889 2020-188897 2020-190498 2020-190521 2020-190522 2020-190564 2020-191342 2020-185103 2020-185509 2020-185531 2020-185532
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2月21日(金) - 東京 千代田区
2月21日(金) - 東京 大田
パテントマップを用いた知財戦略の策定方法 -自社が勝つパテントマップ作成と それを活用した開発戦略・知財戦略の実践方法- <東京会場受講(対面)/Zoomオンライン受講 選択可> <見逃し視聴選択可>
2月21日(金) -
2月22日(土) - 東京 板橋区
2月21日(金) - 東京 千代田区
2月25日(火) -
2月25日(火) -
2月26日(水) -
2月26日(水) -
2月26日(水) - 東京 港区
2月26日(水) -
2月26日(水) - 千葉 船橋市
2月27日(木) -
2月27日(木) -
2月27日(木) - 東京 港区
2月27日(木) -
2月27日(木) - 東京 千代田区
2月25日(火) -
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