日新電機株式会社
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■ 2012年 出願公開件数ランキング 第649位 49件
（
2011年：第856位 35件）
■ 2012年 特許取得件数ランキング 第1691位 14件
（
2011年：第1552位 15件）
（ランキング更新日：2025年3月26日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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日新電機株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 5093081 | 電磁操作器 | 2012年12月 5日 | |
| 特許 5083175 | 閃絡検出装置 | 2012年11月28日 | |
| 特許 5071342 | 信号処理装置、信号処理方法、及び電流計測装置 | 2012年11月14日 | |
| 特許 5018233 | コンデンサ装置 | 2012年 9月 5日 | |
| 特許 5018994 | プラズマ処理装置 | 2012年 9月 5日 | |
| 特許 5003922 | 受変電設備 | 2012年 8月22日 | |
| 特許 4997925 | シリコンドット形成方法及び装置並びにシリコンドット及び絶縁膜付き基板の形成方法及び装置 | 2012年 8月15日 | |
| 特許 4993291 | 直流電源装置 | 2012年 8月 8日 | |
| 特許 4985490 | 成膜装置 | 2012年 7月25日 | |
| 特許 4968480 | 結線装置 | 2012年 7月 4日 | |
| 特許 4957781 | 腐食性ガス対策装置 | 2012年 6月20日 | |
| 特許 4899676 | ガス絶縁開閉装置状態監視システム | 2012年 3月21日 | |
| 特許 4879959 | シリコンドット形成方法及びシリコンドット形成装置 | 2012年 2月22日 | 共同出願 |
| 特許 4864071 | シリコンドット形成方法及びシリコンドット形成装置 | 2012年 1月25日 | 共同出願 |
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5093081 5083175 5071342 5018233 5018994 5003922 4997925 4993291 4985490 4968480 4957781 4899676 4879959 4864071
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