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■ 2018年 出願公開件数ランキング 第4220位 4件
(2017年:第4465位 4件)
■ 2018年 特許取得件数ランキング 第2781位 5件
(2017年:第4057位 3件)
(ランキング更新日:2025年3月21日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
---|---|---|---|
特許 6445603 | ALD反応炉における基板の装填 | 2018年12月26日 | |
特許 6411484 | 偽造防止用署名 | 2018年10月24日 | |
特許 6374973 | ALDコーティングによる中空ボディ内面の保護 | 2018年 8月15日 | |
特許 6302081 | ゲルマニウムまたは酸化ゲルマニウムの原子層堆積 | 2018年 3月28日 | |
特許 6302082 | ALDコーティングによるガスコンテナ内部の保護 | 2018年 3月28日 |
5 件中 1-5 件を表示
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6445603 6411484 6374973 6302081 6302082
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3月24日(月) -
3月25日(火) - 東京 品川区
3月25日(火) -
3月26日(水) - 東京 港区
3月26日(水) -
3月26日(水) -
3月26日(水) -
3月26日(水) -
3月24日(月) -
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