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■ 2022年 出願公開件数ランキング 第37581位 0件
(2021年:第34147位 0件)
■ 2022年 特許取得件数ランキング 第27906位 0件
(2021年:第25492位 0件)
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特許 7166921 | プラズマ処理装置、プラズマ処理装置のための分離格子および基板処理方法 | 2022年11月 8日 | |
特許 7125542 | 中性原子ビームを使用した被加工物処理のためのシステムおよび方法 | 2022年 8月24日 | |
特許 7086232 | 被加工材の露光後ベーク処理のための方法および装置 | 2022年 6月17日 | |
特許 7065875 | プラズマ処理装置のためのペデスタルアセンブリ | 2022年 5月12日 | |
特許 7051965 | ミリ秒アニールシステムのための予熱方法 | 2022年 4月11日 | |
特許 7039722 | 熱処理システムにおける局所加熱のための支持板 | 2022年 3月22日 | |
特許 7021344 | 有機ラジカルを使用したシリコンまたはシリコンゲルマニウム表面の表面処理 | 2022年 2月16日 | |
特許 6991324 | 有機前駆体を使用した遠隔のプラズマによる、シリコンと炭素とを含有する膜の表面処理 | 2022年 2月 3日 | |
特許 6991323 | 有機ラジカルを使用した炭素含有膜の表面処理 | 2022年 1月12日 |
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7166921 7125542 7086232 7065875 7051965 7039722 7021344 6991324 6991323
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3月21日(金) - 石川 金沢市
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