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エイゼット・エレクトロニック・マテリアルズ・ユーエスエイ・コーポレイション
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■ 2013年 出願公開件数ランキング 第2461位 9件
（
2012年：第2159位 10件）
■ 2013年 特許取得件数ランキング 第25899位 0件
（2012年：第25637位 0件）
（ランキング更新日：2025年3月4日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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エイゼット・エレクトロニック・マテリアルズ・ユーエスエイ・コーポレイションの商標一覧| 公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特表 2013-536463 | フォトレジストパターン上にコーティングするための組成物 | 2013年 9月19日 | |
| 特開 2013-156647 | 反射防止コーティング組成物 | 2013年 8月15日 | |
| 特開 2013-152485 | フォトレジスト用の反射防止膜組成物 | 2013年 8月 8日 | |
| 特表 2013-530425 | 反射防止コーティング組成物及び微細電子デバイスを製造するための方法 | 2013年 7月25日 | |
| 特表 2013-519926 | 反射防止組成物及びそれを用いた方法 | 2013年 5月30日 | |
| 特表 2013-515972 | 縮合芳香環を含む反射防止コーティング組成物 | 2013年 5月 9日 | |
| 特表 2013-509606 | フォトレジスト用反射防止組成物 | 2013年 3月14日 | |
| 特表 2013-507653 | ポジ型光像形成性底面反射防止コーティング | 2013年 3月 4日 | |
| 特表 2013-506865 | ポジ型光像形成性底面反射防止コーティング | 2013年 2月28日 |
9 件中 1-9 件を表示
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2013-536463 2013-156647 2013-152485 2013-530425 2013-519926 2013-515972 2013-509606 2013-507653 2013-506865
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