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エイゼット・エレクトロニック・マテリアルズ・ユーエスエイ・コーポレイション
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■ 2011年 出願公開件数ランキング 第1852位 12件
（
2010年：第1301位 22件）
■ 2011年 特許取得件数ランキング 第24706位 0件
（2010年：第8338位 1件）
（ランキング更新日：2025年1月31日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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エイゼット・エレクトロニック・マテリアルズ・ユーエスエイ・コーポレイションの商標一覧| 公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特表 2011-528186 | デュアルダマシンビア充填用組成物 | 2011年11月10日 | |
| 特表 2011-527460 | 反射防止コーティング組成物 | 2011年10月27日 | |
| 特表 2011-527461 | 反射防止コーティング組成物 | 2011年10月27日 | |
| 特表 2011-524930 | フォトレジストパターン上にコーティングするための水性組成物 | 2011年 9月 8日 | |
| 特開 2011-150365 | 光結像性ポジ型底面反射防止膜 | 2011年 8月 4日 | |
| 特開 2011-145695 | トップコートを用いて深紫外線フォトレジストに像を形成する方法およびそのための材料 | 2011年 7月28日 | |
| 特表 2011-520148 | 反射防止コーティング組成物 | 2011年 7月14日 | |
| 特表 2011-517079 | 二重パターン化を用いたフォトレジスト像形成方法 | 2011年 5月26日 | |
| 特表 2011-517080 | パターン硬化工程を含むフォトレジストパターン間の寸法を縮小する方法 | 2011年 5月26日 | |
| 特表 2011-508254 | 反射防止膜上にコートされたフォトレジストに像を形成する方法 | 2011年 3月10日 | |
| 特表 2011-502276 | 底面反射防止膜用コーティング組成物 | 2011年 1月20日 | |
| 特表 2011-501815 | 厚膜レジスト | 2011年 1月13日 |
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2011-528186 2011-527460 2011-527461 2011-524930 2011-150365 2011-145695 2011-520148 2011-517079 2011-517080 2011-508254 2011-502276 2011-501815
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