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エイゼット・エレクトロニック・マテリアルズ・ユーエスエイ・コーポレイション
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■ 2012年 出願公開件数ランキング 第2159位 10件
（
2011年：第1852位 12件）
■ 2012年 特許取得件数ランキング 第25637位 0件
（2011年：第24706位 0件）
（ランキング更新日：2026年2月20日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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エイゼット・エレクトロニック・マテリアルズ・ユーエスエイ・コーポレイションの商標一覧| 公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特表 2012-517612 | ポリシラザンを用いたリバーストーン画像の形成のためのハードマスク方法 | 2012年 8月 2日 | |
| 特開 2012-145960 | フォトレジストパターンを被覆するための組成物 | 2012年 8月 2日 | |
| 特表 2012-515944 | 二重パターニングを用いるフォトレジスト像形成法 | 2012年 7月12日 | |
| 特開 2012-103723 | 光結像性ポジ型底面反射防止膜 | 2012年 5月31日 | |
| 特表 2012-510639 | 感光性組成物 | 2012年 5月10日 | |
| 特表 2012-508909 | 縮合芳香環を含む反射防止コーティング組成物 | 2012年 4月12日 | |
| 特表 2012-508910 | 縮合芳香環を含む反射防止コーティング組成物 | 2012年 4月12日 | |
| 特表 2012-508911 | コーティング組成物 | 2012年 4月12日 | |
| 特表 2012-505434 | 底面反射防止コーティング組成物 | 2012年 3月 1日 | |
| 特表 2012-500408 | 反転トーン像を形成するためのハードマスクプロセス | 2012年 1月 5日 |
10 件中 1-10 件を表示
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2012-517612 2012-145960 2012-515944 2012-103723 2012-510639 2012-508909 2012-508910 2012-508911 2012-505434 2012-500408
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