ホーム > 特許ランキング > エイゼット・エレクトロニック・マテリアルズ・ユーエスエイ・コーポレイション > 2012年 > 出願公開一覧
エイゼット・エレクトロニック・マテリアルズ・ユーエスエイ・コーポレイション
※ ログインすれば出願人(エイゼット・エレクトロニック・マテリアルズ・ユーエスエイ・コーポレイション)をリストに登録できます。ログインについて
■ 2012年 出願公開件数ランキング 第2159位 10件
（
2011年：第1852位 12件）
■ 2012年 特許取得件数ランキング 第25637位 0件
（2011年：第24706位 0件）
（ランキング更新日：2025年5月2日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
2011年 2013年 2014年 2015年 2016年 2017年 2018年 2019年 2020年 2021年 2022年 2023年 2024年 2025年
エイゼット・エレクトロニック・マテリアルズ・ユーエスエイ・コーポレイションの商標一覧| 公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特表 2012-517612 | ポリシラザンを用いたリバーストーン画像の形成のためのハードマスク方法 | 2012年 8月 2日 | |
| 特開 2012-145960 | フォトレジストパターンを被覆するための組成物 | 2012年 8月 2日 | |
| 特表 2012-515944 | 二重パターニングを用いるフォトレジスト像形成法 | 2012年 7月12日 | |
| 特開 2012-103723 | 光結像性ポジ型底面反射防止膜 | 2012年 5月31日 | |
| 特表 2012-510639 | 感光性組成物 | 2012年 5月10日 | |
| 特表 2012-508909 | 縮合芳香環を含む反射防止コーティング組成物 | 2012年 4月12日 | |
| 特表 2012-508910 | 縮合芳香環を含む反射防止コーティング組成物 | 2012年 4月12日 | |
| 特表 2012-508911 | コーティング組成物 | 2012年 4月12日 | |
| 特表 2012-505434 | 底面反射防止コーティング組成物 | 2012年 3月 1日 | |
| 特表 2012-500408 | 反転トーン像を形成するためのハードマスクプロセス | 2012年 1月 5日 |
10 件中 1-10 件を表示
※ をクリックすると公報番号が選択状態になります。クリップボードにコピーする際にお使いください。
このページの公報番号をまとめてクリップボードにコピー
2012-517612 2012-145960 2012-515944 2012-103723 2012-510639 2012-508909 2012-508910 2012-508911 2012-505434 2012-500408
※ ログインすれば出願人をリストに登録できます。エイゼット・エレクトロニック・マテリアルズ・ユーエスエイ・コーポレイションの知財の動向チェックに便利です。
特許ランキング
5月12日(月) -
5月13日(火) - 東京 港区
5月14日(水) - 東京 港区
5月14日(水) -
5月15日(木) - 東京 港区
5月16日(金) - 東京 千代田区
5月16日(金) -
5月16日(金) - 東京 千代田区
5月16日(金) -
5月12日(月) -
特許事務所紹介 IP Force 特許事務所紹介
〒060-0002 札幌市中央区北2条西3丁目1番地太陽生命札幌ビル7階 特許・実用新案 商標 外国特許 訴訟 鑑定 コンサルティング
〒102-0072 東京都千代田区飯田橋４－１－１ 飯田橋ＩＳビル８階 特許・実用新案 意匠 商標 外国特許 外国意匠 外国商標 訴訟 鑑定 コンサルティング
東京都外神田４－１４－２ 東京タイムズタワー２７０３号室 特許・実用新案 鑑定
