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■ 2021年 出願公開件数ランキング 第397位 88件 (2020年:第309位 122件)
■ 2021年 特許取得件数ランキング 第279位 102件 (2020年:第351位 75件)
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特許 6838063 | 金属酸化物を含有する材料、その製造方法及びその使用方法 | 2021年 3月 3日 | |
特許 6835710 | ボロン酸誘導体 | 2021年 2月24日 | |
特許 6835711 | ボロン酸誘導体 | 2021年 2月24日 | |
特許 6835727 | IRAK1/4阻害剤としての大環状化合物及びその使用 | 2021年 2月24日 | |
特許 6835828 | IRAK阻害剤としてのヘテロアリール化合物及びその使用 | 2021年 2月24日 | |
特許 6835969 | ブロックコポリマーの自己組織化のための新規組成物及び方法 | 2021年 2月24日 | |
特許 6827954 | 3−(1H−ベンズイミダゾール−2−イル)−1H−ピリジン−2−オン誘導体 | 2021年 2月10日 | |
特許 6824255 | ペルフルオロアルキル基をルイス酸触媒として含有しているビスマス化合物 | 2021年 2月 3日 | |
特許 6825805 | プラスチック成形品の3次元立体構造の製造方法 | 2021年 2月 3日 | |
特許 6817066 | 非液体サンプルで行われる微生物を検出する方法 | 2021年 1月20日 | |
特許 6818888 | 環境的に安定した厚膜化学増幅レジスト | 2021年 1月20日 | |
特許 6810696 | ハードマスク組成物および半導体基板上での微細パターンの形成方法 | 2021年 1月 6日 | |
特許 6810754 | レーザーアブレーション用ネガティブワーキングフォトレジスト組成物及びその使用 | 2021年 1月 6日 | |
特許 6810782 | 誘導自己集合体施与のためのケイ素含有ブロックコポリマー | 2021年 1月 6日 |
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6838063 6835710 6835711 6835727 6835828 6835969 6827954 6824255 6825805 6817066 6818888 6810696 6810754 6810782
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11月22日(金) -
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11月22日(金) - 大阪 大阪市
11月22日(金) -
11月22日(金) -
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11月25日(月) - 岐阜 各務原市
11月26日(火) -
11月26日(火) - 東京 港区
11月26日(火) -
11月26日(火) -
11月26日(火) -
11月27日(水) - 東京 港区
11月27日(水) -
11月27日(水) -
11月27日(水) -
11月27日(水) -
11月28日(木) - 東京 港区
11月28日(木) - 島根 松江市
11月28日(木) - 京都 京都市
11月28日(木) -
11月28日(木) - 大阪 大阪市
11月28日(木) -
11月29日(金) - 東京 港区
11月29日(金) - 茨城 ひたちなか市
11月30日(土) -
12月1日(日) -
12月1日(日) -
11月25日(月) -