ホーム > 特許ランキング > メルク パテント ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング > 2026年の特許
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■ 2026年 出願公開件数ランキング 第275位 98件
(
2025年:第254位 133件)
■ 2026年 特許取得件数ランキング 第382位 56件
(
2025年:第338位 81件)
(ランキング更新日:2026年10月21日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 7936871 | 新規親水性ピン止めMATの開発 | 2026年10月16日 | |
| 特許 7933760 | 芳香族イソチオシアネート類 | 2026年10月13日 | |
| 特許 7932832 | 液晶媒体 | 2026年10月 9日 | |
| 特許 7930959 | 芳香族イソチオシアネート類 | 2026年10月 6日 | |
| 特許 7930685 | 液晶媒体 | 2026年10月 6日 | |
| 特許 7927786 | TLR7/8アンタゴニストおよびそれらの使用 | 2026年10月 1日 | |
| 特許 7923861 | レジストパターン間置換液、およびそれを用いたレジストパターンの製造方法 | 2026年 9月18日 | |
| 特許 7921943 | TLR7/8アンタゴニスト及びその使用 | 2026年 9月15日 | |
| 特許 7920154 | 液晶媒体ならびにそれおよび化合物を含む液晶ディスプレイ | 2026年 9月14日 | |
| 特許 7919328 | バイオテクノロジー流体を処理するためのシステム | 2026年 9月11日 | |
| 特許 7914097 | 厚膜化されたレジストパターンの製造方法、厚膜化溶液、および加工基板の製造方法 | 2026年 9月 1日 | |
| 特許 7913039 | ポリシラザン、およびそれを含むシリカ質膜形成組成物、ならびにそれを用いたシリカ質膜の製造方法 | 2026年 8月31日 | |
| 特許 7908279 | レジスト膜厚膜化組成物および厚膜化パターンの製造方法 | 2026年 8月19日 | |
| 特許 7906736 | 重合性化合物を含む液晶媒体 | 2026年 8月18日 | |
| 特許 7900638 | 癌の治療のための、PD-1、TGFβ、及びTIGITの組み合わせ阻害 | 2026年 8月 5日 |
56 件中 1-15 件を表示
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7936871 7933760 7932832 7930959 7930685 7927786 7923861 7921943 7920154 7919328 7914097 7913039 7908279 7906736 7900638
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