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日本エー・エス・エム株式会社
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■ 2013年 出願公開件数ランキング 第12936位 1件
（
2012年：第11791位 1件）
■ 2013年 特許取得件数ランキング 第2688位 7件
（2012年：第2665位 7件）
（ランキング更新日：2025年3月28日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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日本エー・エス・エム株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 5336806 | 基板搬送ロボット用の位置検出装置を備えた半導体処理装置及びその方法 | 2013年11月 6日 | |
| 特許 5283394 | クラスタ型半導体処理装置 | 2013年 9月 4日 | |
| 特許 5274229 | プラズマＣＶＤ装置及びその方法 | 2013年 8月28日 | |
| 特許 5268130 | 酸素含有炭化ケイ素膜を形成するための方法 | 2013年 8月21日 | |
| 特許 5258241 | ＵＶ照射チャンバーをクリーニングする方法 | 2013年 8月 7日 | |
| 特許 5258660 | ウエハ位置合わせ装置を有する半導体処理装置及び方法 | 2013年 8月 7日 | |
| 特許 5196915 | 金属配線構造用のルテニウム膜の形成方法 | 2013年 5月15日 |
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5336806 5283394 5274229 5268130 5258241 5258660 5196915
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