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カール ツァイス マルティセム ゲゼルシヤフト ミット ベシュレンクテル ハフツング

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 ■ 2025年 特許取得件数ランキング    第2586位 6件 (上昇2024年:第3693位 4件)

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公報番号発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)公報発行日備考
特開 2025-182707 適応型検出システムを用いたマルチビーム荷電粒子顕微鏡設計 2025年12月15日
特表 2025-539460 幾何形状ベースの補正電極を有する収差補正ユニットを備えるマルチビーム粒子顕微鏡、および収差補正を調整するための方法、およびコンピュータプログラム製品 2025年12月 5日
特開 2025-156393 動的制御を伴う高スループットマルチビーム荷電粒子検査システム 2025年10月14日
特表 2025-533282 改善された像コントラストのために異方性フィルタリングを用いたマルチビーム荷電粒子顕微鏡設計 2025年10月 3日
特表 2025-532193 荷電粒子ビームデバイスの外乱補償 2025年 9月29日
特表 2025-531496 改良型ビーム管を備えたマルチビーム粒子顕微鏡 2025年 9月19日
特表 2025-526818 1次および2次粒子光学ビーム経路を分離するための磁石機構を有する粒子光学機構、特に、マルチビーム粒子顕微鏡 2025年 8月15日
特表 2025-523647 像面湾曲補正用のミラーを備えるマルチビーム荷電粒子顕微鏡設計 2025年 7月23日
特表 2025-520499 マルチビーム粒子顕微鏡を動作させる方法、コンピュータプログラム製品、およびマルチビーム粒子顕微鏡 2025年 7月 3日
特表 2025-520179 位置合わせが改善されたマルチビーム粒子顕微鏡、マルチビーム粒子顕微鏡の位置合わせを行う方法、およびコンピュータプログラム製品 2025年 7月 1日
特表 2025-519919 二次放射に対して低感受性を有するマルチビームシステムおよびマルチビーム形成ユニット 2025年 6月26日
特表 2025-506560 試料上の粒子ビーム誘起痕を低減させるためのマルチビーム粒子顕微鏡 2025年 3月11日
特表 2025-504991 ドリフトおよび損傷への感受性が低減されたマルチビームシステムおよびマルチビーム生成ユニット 2025年 2月19日
特表 2025-505015 マルチビーム荷電粒子顕微鏡で結像された像中のフィーチャの歪み補正位置を決定するための方法、対応するコンピュータプログラム製品、およびマルチビーム荷電粒子顕微鏡 2025年 2月19日
特開 2025-20087 荷電粒子ビーム顕微鏡のための弁、弁部材、および荷電粒子ビーム顕微鏡 2025年 2月12日

15 件中 1-15 件を表示

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2025-182707 2025-539460 2025-156393 2025-533282 2025-532193 2025-531496 2025-526818 2025-523647 2025-520499 2025-520179 2025-519919 2025-506560 2025-504991 2025-505015 2025-20087

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