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■ 2014年 出願公開件数ランキング 第11848位 1件 (2013年:第5661位 3件)
■ 2014年 特許取得件数ランキング 第3438位 5件 (2013年:第4717位 3件)
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公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
---|---|---|---|
特許 5635367 | プラズマ処理装置 | 2014年12月 3日 | |
特許 5475506 | スパッタリング薄膜形成装置 | 2014年 4月16日 | |
特許 5462369 | プラズマ処理装置 | 2014年 4月 2日 | |
特許 5462368 | プラズマ処理装置 | 2014年 4月 2日 | |
特許 5400434 | プラズマ処理装置 | 2014年 1月29日 | 共同出願 |
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5635367 5475506 5462369 5462368 5400434
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