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■ 2016年 出願公開件数ランキング 第7297位 2件 (2015年:第4198位 4件)
■ 2016年 特許取得件数ランキング 第2650位 6件 (2015年:第2016位 8件)
(ランキング更新日:2024年9月20日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
---|---|---|---|
特許 6018232 | 粒子撮像デバイスにおける測定精度を上げるための装置、システムおよび方法 | 2016年11月 2日 | |
特許 5986246 | 光分布を利用する粒子画像生成デバイスにおける測定精度を向上するためのシステム及び方法 | 2016年 9月 6日 | |
特許 5938348 | 反応特異性の増加のための非標準塩基を含む増幅プライマー | 2016年 6月22日 | |
特許 5901830 | 1以上の材料の測定を行うためのシステム | 2016年 4月13日 | |
特許 5873183 | 画像データ処理方法及びシステム | 2016年 3月 1日 | |
特許 5873831 | フロー・サイトメータ・タイプ測定システムの1つまたは複数のパラメータを制御するための方法 | 2016年 3月 1日 |
6 件中 1-6 件を表示
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6018232 5986246 5938348 5901830 5873183 5873831
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最新の制度改正を反映 海外の特許制度と実務上の留意点(米国・欧州(EPC)・中国)~米国ならびに EPC (欧州特許条約)・中国の各制度の下でのグローバル特許取得の基本的な知識と留意点を解説します~
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