公報番号 | 発明の名称 | 出願人 | 公報発行日 |
---|---|---|---|
特開 2011-252064 | ノボラック型フェノール樹脂およびこれを含むフォトレジスト組成物 | 明和化成株式会社 | 2011年12月15日 |
特開 2011-252037 | エポキシ樹脂組成物、該エポキシ樹脂組成物を用いた半導体封止材料及び積層板 | 明和化成株式会社 | 2011年12月15日 |
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2011-252064 2011-252037
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5月12日(月) -
5月13日(火) - 東京 港区
5月14日(水) - 東京 港区
5月14日(水) -
5月15日(木) - 東京 港区
5月16日(金) - 東京 千代田区
5月16日(金) -
5月16日(金) - 東京 千代田区
5月16日(金) -
5月12日(月) -
5月19日(月) -
5月20日(火) - 東京 品川区
5月20日(火) -
5月21日(水) - 東京 港区
5月21日(水) - 東京 大田区
5月22日(木) - 東京 港区
5月22日(木) -
5月23日(金) - 東京 千代田区
5月23日(金) - 大阪 大阪市
5月19日(月) -
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