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■ 2021年 出願公開件数ランキング 第171位 252件
(2020年:第225位 187件)
■ 2021年 特許取得件数ランキング 第235位 122件
(2020年:第158位 184件)
(ランキング更新日:2025年6月9日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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再表 2020-170960 | エネルギー貯蔵デバイス電極用薄膜形成用組成物 | 2021年12月16日 | |
再表 2020-171072 | 電池材料 | 2021年12月16日 | |
再表 2020-171074 | 電池材料および電極材料 | 2021年12月16日 | |
再表 2020-171128 | 液晶配向剤及びそれを用いた液晶表示素子 | 2021年12月16日 | |
特開 2021-189314 | シリコン含有レジスト下層膜の製造方法 | 2021年12月13日 | |
再表 2020-162324 | 帯電防止ハードコート用硬化性組成物 | 2021年12月 9日 | |
再表 2020-162326 | フレキシブルハードコート用硬化性組成物 | 2021年12月 9日 | |
再表 2020-162329 | ハードコート用硬化性組成物 | 2021年12月 9日 | |
再表 2020-162332 | 防眩性フレキシブルハードコート用硬化性組成物 | 2021年12月 9日 | |
再表 2020-162462 | 液晶配向剤、液晶配向膜及びそれを用いた液晶表示素子 | 2021年12月 9日 | |
再表 2020-162508 | 液晶配向剤、液晶配向膜及びそれを用いた液晶表示素子 | 2021年12月 9日 | |
再表 2020-166580 | ポリマーの製造方法 | 2021年12月 9日 | |
再表 2020-166635 | ラジカルトラップ剤を含むレジスト下層膜形成組成物 | 2021年12月 9日 | |
特開 2021-185233 | ハイバーブランチ高分子又はデンドリマー高分子付加異形シリカナノ粒子並びに複合体 | 2021年12月 9日 | |
再表 2020-158410 | 電荷輸送性ワニス | 2021年12月 2日 |
278 件中 16-30 件を表示
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2020-170960 2020-171072 2020-171074 2020-171128 2021-189314 2020-162324 2020-162326 2020-162329 2020-162332 2020-162462 2020-162508 2020-166580 2020-166635 2021-185233 2020-158410
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6月20日(金) - 東京 千代田区
6月20日(金) -
6月16日(月) - 東京 大田
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