公報番号 | 発明の名称 | 出願人 | 公報発行日 |
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特許 5375412 | 微細パターン形成用樹脂組成物および微細パターン形成方法 | JSR株式会社 | 2013年12月25日 |
特許 5375881 | 液浸露光用感放射線性樹脂組成物 | JSR株式会社 | 2013年12月25日 |
特許 5375043 | 積層光学フィルムの製造方法、積層光学フィルムおよびその用途 | JSR株式会社 | 2013年12月25日 |
特許 5374049 | 電線用多層被覆 | JSR株式会社 他 | 2013年12月25日 |
特許 5374820 | 熱可塑性樹脂組成物およびそれからなる光学フィルム | JSR株式会社 | 2013年12月25日 |
特許 5376118 | 絶縁膜形成用組成物の製造方法、ならびに絶縁膜の形成方法 | JSR株式会社 | 2013年12月25日 |
特許 5376165 | 液晶配向剤および液晶表示素子 | JSR株式会社 | 2013年12月25日 |
特許 5375610 | 化合物及びその製造方法 | JSR株式会社 | 2013年12月25日 |
特許 5376015 | レジスト下層膜形成方法及びそれに用いるレジスト下層膜用組成物並びにパターン形成方法 | JSR株式会社 | 2013年12月25日 |
特許 5370631 | 液晶配向剤、液晶配向膜および液晶表示素子 | JSR株式会社 | 2013年12月18日 |
特許 5369420 | 絶縁膜形成用感光性樹脂組成物 | JSR株式会社 | 2013年12月18日 |
特許 5369816 | 変性共役ジエン系重合体の製造方法、変性共役ジエン系重合体、及びゴム組成物 | JSR株式会社 | 2013年12月18日 |
特許 5370646 | 感放射線性ポリオルガノシロキサンの製造方法 | JSR株式会社 | 2013年12月18日 |
特許 5370772 | 防汚性組成物、表面保護フィルムおよび偏光板の表面保護方法 | JSR株式会社 | 2013年12月18日 |
特許 5369409 | 光学フィルム、その製造方法、偏光板および液晶パネル | JSR株式会社 | 2013年12月18日 |
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9月1日(月) - 千葉 千葉市美浜区中瀬1丁目3番地
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特許庁:AI/DX時代に即した産業財産権制度について ~有識者委員会での議論を踏まえた、特許・意匠制度の見直しの方向性~
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9月4日(木) - 大阪 大阪市
9月4日(木) -
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9月5日(金) -
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9月1日(月) - 千葉 千葉市美浜区中瀬1丁目3番地
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