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| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 7854139 | レジスト下層膜形成用組成物、半導体基板の製造方法及びレジスト下層膜の形成方法 | 2026年 5月 1日 | |
| 特許 7852473 | 化学機械研磨用組成物の製造方法 | 2026年 4月28日 | |
| 特許 7852524 | 液晶配向剤、液晶配向膜、液晶素子、重合体及び化合物 | 2026年 4月28日 | |
| 特許 7852529 | 液晶配向剤、液晶配向膜、液晶素子及び熱硬化性組成物 | 2026年 4月28日 | |
| 特許 7852535 | 液晶配向剤、液晶配向膜及びその製造方法、並びに液晶素子 | 2026年 4月28日 | |
| 特許 7852643 | 化学機械研磨用組成物および研磨方法 | 2026年 4月28日 | |
| 特許 7849665 | 半導体基板の製造方法 | 2026年 4月22日 | |
| 特許 7849796 | オリゴデンドロサイト様細胞の製造方法 | 2026年 4月22日 | |
| 特許 7848693 | 感放射線性樹脂組成物、パターン形成方法、及び撥水性改善剤 | 2026年 4月21日 | |
| 特許 7847734 | 成膜方法 | 2026年 4月20日 | |
| 特許 7845020 | 光学センサー用組成物および光学センサーならびに該光学フィルターを用いた固体撮像装置およびカメラモジュール | 2026年 4月14日 | |
| 特許 7841535 | 半導体基板の製造方法及びレジスト下層膜形成用組成物 | 2026年 4月 7日 | |
| 特許 7836500 | 半導体基板の製造方法及び組成物 | 2026年 3月27日 | |
| 特許 7831475 | 絶縁膜形成用感放射線性組成物、パターンを有する樹脂膜および半導体回路基板 | 2026年 3月17日 | |
| 特許 7826625 | アルカリ現像用感放射線性組成物及びパターン形成方法 | 2026年 3月10日 |
42 件中 1-15 件を表示
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7854139 7852473 7852524 7852529 7852535 7852643 7849665 7849796 7848693 7847734 7845020 7841535 7836500 7831475 7826625
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