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JSR株式会社

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公報番号発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)公報発行日備考
特許 7854139 レジスト下層膜形成用組成物、半導体基板の製造方法及びレジスト下層膜の形成方法 2026年 5月 1日
特許 7852473 化学機械研磨用組成物の製造方法 2026年 4月28日
特許 7852524 液晶配向剤、液晶配向膜、液晶素子、重合体及び化合物 2026年 4月28日
特許 7852529 液晶配向剤、液晶配向膜、液晶素子及び熱硬化性組成物 2026年 4月28日
特許 7852535 液晶配向剤、液晶配向膜及びその製造方法、並びに液晶素子 2026年 4月28日
特許 7852643 化学機械研磨用組成物および研磨方法 2026年 4月28日
特許 7849665 半導体基板の製造方法 2026年 4月22日
特許 7849796 オリゴデンドロサイト様細胞の製造方法 2026年 4月22日
特許 7848693 感放射線性樹脂組成物、パターン形成方法、及び撥水性改善剤 2026年 4月21日
特許 7847734 成膜方法 2026年 4月20日
特許 7845020 光学センサー用組成物および光学センサーならびに該光学フィルターを用いた固体撮像装置およびカメラモジュール 2026年 4月14日
特許 7841535 半導体基板の製造方法及びレジスト下層膜形成用組成物 2026年 4月 7日
特許 7836500 半導体基板の製造方法及び組成物 2026年 3月27日
特許 7831475 絶縁膜形成用感放射線性組成物、パターンを有する樹脂膜および半導体回路基板 2026年 3月17日
特許 7826625 アルカリ現像用感放射線性組成物及びパターン形成方法 2026年 3月10日

42 件中 1-15 件を表示

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7854139 7852473 7852524 7852529 7852535 7852643 7849665 7849796 7848693 7847734 7845020 7841535 7836500 7831475 7826625

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