公報番号 | 発明の名称 | 出願人 | 公報発行日 |
---|---|---|---|
特許 5110279 | 感放射線性樹脂組成物、および層間絶縁膜とその製造方法 | JSR株式会社 | 2012年12月26日 |
特許 5109437 | 着色層形成用感放射線性組成物、カラーフィルタおよびカラー液晶表示素子 | JSR株式会社 | 2012年12月26日 |
特許 5109678 | 着色層形成用感放射線性組成物、カラーフィルタおよびカラー液晶表示素子 | JSR株式会社 | 2012年12月26日 |
特許 5109716 | 着色層形成用感放射線性組成物、カラーフィルタおよびカラー液晶表示素子 | JSR株式会社 | 2012年12月26日 |
特許 5109903 | 着色層形成用感放射線性組成物、カラーフィルタ及び液晶表示素子 | JSR株式会社 | 2012年12月26日 |
特許 5110278 | 感放射線性樹脂組成物、液晶表示素子のスペーサーおよび保護膜ならびにそれらの形成方法 | JSR株式会社 | 2012年12月26日 |
特許 5110239 | 有機シリカ系膜の形成方法、膜形成用組成物 | JSR株式会社 | 2012年12月26日 |
特許 5107686 | 放射線硬化性樹脂組成物 | JSR株式会社 他 | 2012年12月26日 |
特許 5109237 | 環状オレフィン系樹脂組成物およびその成形体 | JSR株式会社 | 2012年12月26日 |
特許 5109247 | 環状オレフィン系開環重合体水素化物の製造方法 | JSR株式会社 | 2012年12月26日 |
特許 5109365 | 環状オレフィン系開環共重合体およびその用途 | JSR株式会社 | 2012年12月26日 |
特許 5110238 | 絶縁膜形成用組成物およびその製造方法、ならびにシリカ系絶縁膜およびその形成方法 | JSR株式会社 | 2012年12月26日 |
特許 5110243 | ポリマーの製造方法 | JSR株式会社 | 2012年12月26日 |
特許 5109366 | 芳香族化合物、ポリアリーレン系共重合体およびその用途 | JSR株式会社 | 2012年12月26日 |
特許 5109367 | 芳香族スルホン酸イミド誘導体、芳香族スルホン酸イミド含有ブロック共重合体、スルホン酸イミドスルホン酸共重合体を有するポリアリーレン、芳香族スルホン酸イミド誘導体を含む高分子固体電解質、スルホン酸イミドスルホン酸含有ポリアリーレンを含む高分子固体電解質、それらを含むプロトン伝導膜 | JSR株式会社 | 2012年12月26日 |
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8月29日(金) - 大阪 大阪市
8月29日(金) -
8月29日(金) -
8月29日(金) - 東京 港区
8月29日(金) -
9月1日(月) - 千葉 千葉市美浜区中瀬1丁目3番地
9月1日(月) - 東京 港区
特許庁:AI/DX時代に即した産業財産権制度について ~有識者委員会での議論を踏まえた、特許・意匠制度の見直しの方向性~
9月1日(月) -
9月2日(火) -
9月2日(火) -
9月2日(火) - 東京 港区
9月3日(水) -
9月3日(水) -
9月4日(木) - 大阪 大阪市
9月4日(木) -
9月4日(木) - 大阪 大阪市
9月5日(金) -
9月5日(金) -
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9月1日(月) - 千葉 千葉市美浜区中瀬1丁目3番地
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