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サンエディソン・セミコンダクター・リミテッド
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■ 2018年 出願公開件数ランキング 第1721位 13件
（
2017年：第2921位 7件）
■ 2018年 特許取得件数ランキング 第2192位 7件
（2017年：第3281位 4件）
（ランキング更新日：2024年11月25日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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サンエディソン・セミコンダクター・リミテッドの商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 6400532 | エピタキシャル反応炉の温度制御システムおよび方法 | 2018年10月 3日 | |
| 特許 6373354 | ライトポイント欠陥と表面粗さを低減するための半導体オンインシュレータウエハの製造方法 | 2018年 8月15日 | |
| 特許 6373868 | 半径方向の圧縮により歪が低減されたヘテロ構造を準備するプロセスおよび装置 | 2018年 8月15日 | |
| 特許 6314153 | 半径方向の拡張により歪が低減されたヘテロ構造を準備するプロセスおよび装置 | 2018年 4月18日 | |
| 特許 6314154 | 半導体基板に応力を加える装置 | 2018年 4月18日 | |
| 特許 6291478 | リアクタ装置内においてウェハを支持するためのサセプタアセンブリ | 2018年 3月14日 | |
| 特許 6289621 | チョクラルスキ法で成長したインゴットからスライスされた高ドープシリコンウエハ中の酸素析出 | 2018年 3月 7日 |
7 件中 1-7 件を表示
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6400532 6373354 6373868 6314153 6314154 6291478 6289621
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