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サンエディソン・セミコンダクター・リミテッド

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　■　2018年出願公開件数ランキング　　　第1627位　13件（2017年：第2656位　7件）

　■　2018年特許取得件数ランキング　　　第2192位　7件（2017年：第3281位　4件）

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サンエディソン・セミコンダクター・リミテッドの商標一覧

公報番号	発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)	公報発行日
特表 2018-537844	多結晶仕上げを有する半導体ウエハを処理する方法	2018年12月20日
特表 2018-531323	ＣＶＤ装置	2018年10月25日
特表 2018-525317	チャンクポリシリコンまたは粒状ポリシリコンを結晶成長チャンバの中に選択的に供給するためのシステム	2018年 9月 6日
特開 2018-129514	半径方向の拡張により歪が低減されたヘテロ構造を準備するプロセスおよび装置	2018年 8月16日
特表 2018-520509	半導体・オン・インシュレータの製造方法	2018年 7月26日
特表 2018-520510	シリコンゲルマニウム・オン・インシュレータの製造方法	2018年 7月26日
特開 2018-117130	半導体基板に応力を加える装置	2018年 7月26日
特表 2018-518050	多結晶仕上げを有する半導体ウエハを処理する方法	2018年 7月 5日
特開 2018-85536	多層半導体デバイス作製時の低温層転写方法	2018年 5月31日
特表 2018-509002	半導体オン・インシュレータ構造の製造において使用するための熱的に安定した電荷トラップ層	2018年 3月29日
特開 2018-50052	基板上の窒化ホウ素およびグラフェンの直接および連続形成	2018年 3月29日
特表 2018-507562	膜応力を制御可能なシリコン基板の上に電荷トラップ用多結晶シリコン膜を成長させる方法	2018年 3月15日
特表 2018-504777	半導体構造上にエピタキシャルスムージング加工を実行するためのシステムおよび方法	2018年 2月15日

13 件中 1-13 件を表示

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2018-537844 2018-531323 2018-525317 2018-129514 2018-520509 2018-520510 2018-117130 2018-518050 2018-85536 2018-509002 2018-50052 2018-507562 2018-504777

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