ホーム > 特許ランキング > サンエディソン・セミコンダクター・リミテッド > 2019年 > 特許一覧
サンエディソン・セミコンダクター・リミテッド
※ ログインすれば出願人(サンエディソン・セミコンダクター・リミテッド)をリストに登録できます。ログインについて
■ 2019年 出願公開件数ランキング 第2176位 10件
（
2018年：第1721位 13件）
■ 2019年 特許取得件数ランキング 第1635位 10件
（
2018年：第2192位 7件）
（ランキング更新日：2025年3月21日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
2011年 2012年 2013年 2014年 2015年 2016年 2017年 2018年 2020年 2021年 2022年 2023年 2024年 2025年
サンエディソン・セミコンダクター・リミテッドの商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 6592534 | 多層構造体及びその製造方法 | 2019年10月16日 | |
| 特許 6567208 | 基板上の窒化ホウ素およびグラフェンの直接および連続形成 | 2019年 8月28日 | |
| 特許 6545842 | 半径方向の拡張により歪が低減されたヘテロ構造を準備するプロセスおよび装置 | 2019年 7月17日 | |
| 特許 6533309 | 多層構造体の製造方法 | 2019年 6月19日 | |
| 特許 6517360 | 膜応力を制御可能なシリコン基板の上に電荷トラップ用多結晶シリコン膜を成長させる方法 | 2019年 5月22日 | |
| 特許 6487454 | 層状半導体構造体の製造方法 | 2019年 3月20日 | |
| 特許 6488350 | 基板上の窒化ホウ素およびグラフェンの直接および連続形成 | 2019年 3月20日 | |
| 特許 6461900 | 粒状材料中のダストを低減するためのシステムおよび方法 | 2019年 1月30日 | |
| 特許 6454411 | 高抵抗率シリコンオンインシュレータ基板の製造方法 | 2019年 1月16日 | |
| 特許 6454716 | 高抵抗率ＳＯＩウエハおよびその製造方法 | 2019年 1月16日 |
10 件中 1-10 件を表示
※ をクリックすると公報番号が選択状態になります。クリップボードにコピーする際にお使いください。
このページの公報番号をまとめてクリップボードにコピー
6592534 6567208 6545842 6533309 6517360 6487454 6488350 6461900 6454411 6454716
※ ログインすれば出願人をリストに登録できます。サンエディソン・セミコンダクター・リミテッドの知財の動向チェックに便利です。
特許ランキング
3月24日(月) -
3月25日(火) - 東京 品川区
3月25日(火) -
3月26日(水) - 東京 港区
3月26日(水) -
3月26日(水) -
3月26日(水) -
3月26日(水) -
3月24日(月) -
4月1日(火) - 山口 山口市
4月1日(火) -
4月4日(金) -
4月1日(火) - 山口 山口市
特許事務所紹介 IP Force 特許事務所紹介
神奈川県横浜市港北区日吉本町１－４－５パレスＭＲ２０１号 特許・実用新案 意匠 商標 外国特許 訴訟 鑑定 コンサルティング
〒543－0014 大阪市天王寺区玉造元町2番32－1301 特許・実用新案 意匠 商標 外国特許 外国意匠 外国商標 訴訟 鑑定 コンサルティング
愛知県名古屋市中区平和一丁目15－30 特許・実用新案 意匠 商標 外国特許 外国意匠 外国商標 訴訟 鑑定 コンサルティング
