特許ランキング - 出願人詳細情報 -

三菱マテリアル電子化成株式会社

※ ログインすれば出願人(三菱マテリアル電子化成株式会社)をリストに登録できます。ログインについて

　■　2017年出願公開件数ランキング　　　第1793位　14件（2016年：第2756位　7件）

　■　2017年特許取得件数ランキング　　　第4057位　3件（2016年：第2017位　9件）

（ランキング更新日：2025年10月14日）筆頭出願人である出願のみカウントしています

2011年 2012年 2013年 2014年 2015年 2016年 2018年 2019年 2020年 2021年 2022年 2023年 2024年 2025年

三菱マテリアル電子化成株式会社の商標一覧

公報番号	発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)	公報発行日
特開 2017-91813	イオン伝導性を有する固体電解質およびこれを用いた電気化学デバイス	2017年 5月25日
再表 2016-17686	親水撥油剤及びその製造方法、並びに表面被覆材、塗布膜、樹脂組成物、油水分離濾材、多孔質体	2017年 4月27日
再表 2016-17754	濾材、濾材の製造方法、水処理用モジュール及び水処理装置	2017年 4月27日
再表 2016-17761	表面被覆材、塗布膜及び親水撥油性材	2017年 4月27日
再表 2016-17768	親水撥油複合体及びその製造方法、並びに表面被覆材、塗布膜、樹脂組成物、油水分離濾材	2017年 4月27日
再表 2016-17771	表面被覆材、塗布膜、親水撥油複合体、親水撥油複合体の製造方法及び油水分離濾材	2017年 4月27日
再表 2015-146892	黒色酸窒化チタン顔料及びその製造方法並びに黒色酸窒化チタン顔料を用いた半導体封止用樹脂化合物	2017年 4月13日
再表 2015-93597	銀被覆導電性粒子、導電性ペースト及び導電性膜	2017年 3月23日
特開 2017-54623	アンチモンドープ酸化錫導電膜形成用組成物及びアンチモンドープ酸化錫導電膜	2017年 3月16日
再表 2015-8864	シリコンターゲット構造体の製造方法およびシリコンターゲット構造体	2017年 3月 2日
特開 2017-43812	スパッタリング用シリコンターゲット材及びそのターゲット材に割れ防止層を形成する方法	2017年 3月 2日
特開 2017-31384	リンドープ酸化錫導電膜形成用組成物及びリンドープ酸化錫導電膜	2017年 2月 9日

27 件中 16-27 件を表示

※ をクリックすると公報番号が選択状態になります。クリップボードにコピーする際にお使いください。

このページの公報番号をまとめてクリップボードにコピー

2017-91813 2016-17686 2016-17754 2016-17761 2016-17768 2016-17771 2015-146892 2015-93597 2017-54623 2015-8864 2017-43812 2017-31384

※ ログインすれば出願人をリストに登録できます。三菱マテリアル電子化成株式会社の知財の動向チェックに便利です。

ログインについて

ランキング一覧に戻る

特許ランキング

2025年特許出願件数	2025年特許取得件数
2024年特許出願件数	2024年特許取得件数
2023年特許出願件数	2023年特許取得件数
2022年特許出願件数	2022年特許取得件数
2021年特許出願件数	2021年特許取得件数
2020年特許出願件数	2020年特許取得件数
2019年特許出願件数	2019年特許取得件数
2018年特許出願件数	2018年特許取得件数
2016年特許出願件数	2016年特許取得件数
2015年特許出願件数	2015年特許取得件数
2014年特許出願件数	2014年特許取得件数
2013年特許出願件数	2013年特許取得件数
2012年特許出願件数	2012年特許取得件数
2011年特許出願件数	2011年特許取得件数