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■ 2018年 出願公開件数ランキング 第33468位 0件 (2017年:第34787位 0件)
■ 2018年 特許取得件数ランキング 第3222位 4件 (2017年:第5450位 2件)
(ランキング更新日:2024年9月20日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
---|---|---|---|
特許 6405309 | 特定の結晶学的特徴を有するIII−V族基板材料および形成方法 | 2018年10月17日 | |
特許 6301259 | 半導体基板および形成方法 | 2018年 3月28日 | |
特許 6290169 | 独立半導体ウェハの形成方法 | 2018年 3月 7日 | |
特許 6270729 | 半導体結晶材料の形成に用いるシステム | 2018年 1月31日 |
4 件中 1-4 件を表示
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6405309 6301259 6290169 6270729
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