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出願人名に「株式会社トリケミカル研究所」を含むもの
| 公報番号 | 発明の名称 | 出願人 | 公報発行日 |
|---|---|---|---|
| 特許 5170590 | 導電性バリア膜形成材料、導電性バリア膜形成方法、及び配線膜形成方法 | 株式会社トリケミカル研究所 | 2013年 3月27日 |
| 特許 5170589 | 導電性バリア膜形成材料、導電性バリア膜形成方法、及び配線膜形成方法 | 株式会社トリケミカル研究所 | 2013年 3月27日 |
| 特許 5128289 | ハフニウム系化合物、ハフニウム系薄膜形成材料、及びハフニウム系薄膜形成方法 | 株式会社トリケミカル研究所 他 | 2013年 1月23日 |
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5170590 5170589 5128289
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