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公報番号 | 発明の名称 | 出願人 | 公報発行日 |
---|---|---|---|
特許 5622793 | 半導体装置とその製造方法 | 世界先進積體電路股▲ふん▼有限公司 | 2014年11月12日 |
特許 5607109 | 半導体装置およびその製造方法 | 世界先進積體電路股▲ふん▼有限公司 | 2014年10月15日 |
特許 5551213 | 半導体装置の製造方法 | 世界先進積體電路股▲ふん▼有限公司 | 2014年 7月16日 |
特許 5480685 | 露光品質制御方法 | 世界先進積體電路股▲ふん▼有限公司 | 2014年 4月23日 |
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5622793 5607109 5551213 5480685
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特許庁:AI/DX時代に即した産業財産権制度について ~有識者委員会での議論を踏まえた、特許・意匠制度の見直しの方向性~
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