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出願人名に「アデイクセン・バキユーム・プロダクト」を含むもの
| 公報番号 | 発明の名称 | 出願人 | 公報発行日 |
|---|---|---|---|
| 特表 2013-539559 | ペリクルを付したレチクルの汚染を除去する方法および装置 | アデイクセン・バキユーム・プロダクト | 2013年10月24日 |
| 特表 2013-539200 | 移送および格納容器の処理装置 | アデイクセン・バキユーム・プロダクト | 2013年10月17日 |
| 特表 2013-536453 | フォトマスクを乾燥させる装置および方法 | アデイクセン・バキユーム・プロダクト | 2013年 9月19日 |
| 特表 2013-518242 | 凍結乾燥処理の際の脱水工程の制御装置及び方法 | アデイクセン・バキユーム・プロダクト | 2013年 5月20日 |
| 特表 2013-514646 | 汚染を測定することにより半導体の製造を制御する方法及び装置 | アデイクセン・バキユーム・プロダクト | 2013年 4月25日 |
| 特表 2013-511644 | 低電力消費の排気方法及び装置 | アデイクセン・バキユーム・プロダクト | 2013年 4月 4日 |
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2013-539559 2013-539200 2013-536453 2013-518242 2013-514646 2013-511644
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