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■ 2018年 出願公開件数ランキング 第33468位 0件
(2017年:第34787位 0件)
■ 2018年 特許取得件数ランキング 第23370位 0件
(2017年:第24017位 0件)
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特許 6362710 | フォトレジスト分注システムにおける増加した再循環及び濾過のための方法及び装置 | 2018年 7月25日 | |
特許 6357231 | 化学的研磨平坦化の方法 | 2018年 7月11日 | |
特許 6321189 | パターン化膜の臨界寸法をシフトするシステムおよび方法 | 2018年 5月 9日 | |
特許 6303008 | 異なる波長の二つ以上の紫外光源を用いて基板を処理するシステム | 2018年 3月28日 | |
特許 6303021 | ラインを正確にカットするためのグラホエピタキシャル誘導自己組織化の使用 | 2018年 3月28日 | |
特許 6297170 | インラインディスペンスキャパシタ | 2018年 3月20日 | |
特許 6283120 | 光増感化学増幅レジスト内の光増感剤濃度の測定メトロロジー | 2018年 2月21日 |
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6362710 6357231 6321189 6303008 6303021 6297170 6283120
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