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■ 2017年 出願公開件数ランキング 第34787位 0件 (2016年:第33513位 0件)
■ 2017年 特許取得件数ランキング 第24017位 0件 (2016年:第24808位 0件)
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特許 6225243 | マイクロ波処理システムおよび基板処理方法 | 2017年11月 1日 | |
特許 6225269 | グラホエピタキシャル用途におけるブロックコポリマーの組織化を誘導するトポグラフィの使用 | 2017年11月 1日 | |
特許 6196739 | 原子層堆積を用いずに自己整合ダブルパターニングを行う方法 | 2017年 9月13日 | |
特許 6185139 | 誘導自己組織化用途向け溶媒アニーリング処理 | 2017年 8月23日 | |
特許 6175570 | ガスパルスを用いる深掘りシリコンエッチングのための方法 | 2017年 8月 2日 | |
特許 6139011 | 誘導自己組織化用途における中立層オーバーコートのトポグラフィの最小化 | 2017年 5月31日 | |
特許 6114270 | 電界によりパターン及び構造形成を制御する方法及びデバイス | 2017年 4月12日 | |
特許 6088052 | 枚葉式基板システムでフォトレジストを剥離する方法 | 2017年 3月 1日 |
8 件中 1-8 件を表示
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6225243 6225269 6196739 6185139 6175570 6139011 6114270 6088052
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2月4日(火) -
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2月5日(水) -
2月5日(水) -
2月5日(水) -
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2月6日(木) -
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2月7日(金) - 東京 港区
2月7日(金) - 神奈川 横浜市
2月7日(金) -
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