特許ランキング - 出願人詳細情報 -

ジュスン　エンジニアリング　カンパニー　リミテッド

※ ログインすれば出願人(ジュスン　エンジニアリング　カンパニー　リミテッド)をリストに登録できます。ログインについて

　■　2026年出願公開件数ランキング　　　第822位　25件（2025年：第888位　28件）

　■　2026年特許取得件数ランキング　　　第1195位　13件（2025年：第1222位　16件）

（ランキング更新日：2026年10月19日）筆頭出願人である出願のみカウントしています

2011年 2012年 2013年 2014年 2015年 2016年 2017年 2018年 2019年 2020年 2021年 2022年 2023年 2024年 2025年

ジュスン　エンジニアリング　カンパニー　リミテッドの商標一覧

公報番号	発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)	公報発行日
特表 2026-531830	基板処理装置および基板処理装置のエッジフレーム	2026年 9月24日
特表 2026-527760	薄膜形成方法	2026年 8月17日
特表 2026-527332	窒化チタン薄膜の形成方法及び半導体素子	2026年 8月13日
特表 2026-526374	電極形成方法	2026年 8月 7日
特開 2026-126347	基板処理装置用の算出システム	2026年 8月 4日
特表 2026-525529	グラフェン膜の形成方法	2026年 7月31日
特表 2026-524145	炭素含有膜の形成方法	2026年 7月17日
特表 2026-523579	電極形成方法	2026年 7月14日
特表 2026-523378	太陽電池及びこの形成方法	2026年 7月14日
特表 2026-523324	酸化窒化ガリウム層の形成方法	2026年 7月14日
特表 2026-522882	銅膜の形成方法	2026年 7月 9日
特表 2026-521169	ガリウム含有膜の形成方法	2026年 6月26日
特表 2026-518028	酸化ルテニウム膜の形成方法及びこれを備える半導体素子の製造方法	2026年 6月 3日
特表 2026-516926	半導体素子の電極形成方法	2026年 5月27日
特開 2026-86898	バッファータンク及び供給ブロック	2026年 5月26日

25 件中 1-15 件を表示

※ をクリックすると公報番号が選択状態になります。クリップボードにコピーする際にお使いください。

このページの公報番号をまとめてクリップボードにコピー

2026-531830 2026-527760 2026-527332 2026-526374 2026-126347 2026-525529 2026-524145 2026-523579 2026-523378 2026-523324 2026-522882 2026-521169 2026-518028 2026-516926 2026-86898

※ ログインすれば出願人をリストに登録できます。の知財の動向チェックに便利です。

ログインについて

ランキング一覧に戻る

特許ランキング

2025年特許出願件数	2025年特許取得件数
2024年特許出願件数	2024年特許取得件数
2023年特許出願件数	2023年特許取得件数
2022年特許出願件数	2022年特許取得件数
2021年特許出願件数	2021年特許取得件数
2020年特許出願件数	2020年特許取得件数
2019年特許出願件数	2019年特許取得件数
2018年特許出願件数	2018年特許取得件数
2017年特許出願件数	2017年特許取得件数
2016年特許出願件数	2016年特許取得件数
2015年特許出願件数	2015年特許取得件数
2014年特許出願件数	2014年特許取得件数
2013年特許出願件数	2013年特許取得件数
2012年特許出願件数	2012年特許取得件数
2011年特許出願件数	2011年特許取得件数