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■ 2024年 出願公開件数ランキング 第1224位 19件
(
2023年:第1976位 11件)
■ 2024年 特許取得件数ランキング 第1722位 11件
(
2023年:第3701位 4件)
(ランキング更新日:2025年10月31日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特開 2024-152934 | 太陽電池および太陽電池用基板 | 2024年10月25日 | |
| 特表 2024-536686 | 基板処理装置の洗浄方法 | 2024年10月 8日 | |
| 特表 2024-532560 | 基板処理装置 | 2024年 9月 5日 | |
| 特開 2024-120039 | 基板処理装置および基板処理方法 | 2024年 9月 3日 | |
| 特表 2024-530906 | SiC基板の製造方法 | 2024年 8月27日 | |
| 特表 2024-529633 | バッファータンク及びバッファータンクを備える供給ブロックと、ガス供給装置 | 2024年 8月 8日 | |
| 特表 2024-523781 | 薄膜の蒸着方法 | 2024年 7月 2日 | |
| 特表 2024-523573 | キャニスターの温度制御方法及び原料供給装置 | 2024年 6月28日 | |
| 特表 2024-522013 | バリア層の形成方法 | 2024年 6月 6日 | |
| 特表 2024-521394 | パワー半導体素子の製造方法 | 2024年 5月31日 | |
| 特表 2024-520296 | 薄膜の形成方法 | 2024年 5月24日 | |
| 特表 2024-520625 | 薄膜の蒸着方法 | 2024年 5月24日 | |
| 特表 2024-520783 | パワー半導体素子の製造方法 | 2024年 5月24日 | |
| 特表 2024-520824 | 基板処理装置及び基板処理装置の洗浄方法 | 2024年 5月24日 | |
| 特表 2024-519442 | 基板の処理方法及び基板の処理装置 | 2024年 5月14日 |
19 件中 1-15 件を表示
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2024-152934 2024-536686 2024-532560 2024-120039 2024-530906 2024-529633 2024-523781 2024-523573 2024-522013 2024-521394 2024-520296 2024-520625 2024-520783 2024-520824 2024-519442
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11月4日(火) -
11月4日(火) - 大阪 大阪市
11月4日(火) -
11月5日(水) -
11月5日(水) -
11月6日(木) - 東京 港区
11月6日(木) - 大阪 大阪市
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11月7日(金) -
11月7日(金) -
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