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- 出願人詳細情報 -
出願人名に「レクトラ」を含むもの
| 公報番号 | 発明の名称 | 出願人 | 公報発行日 |
|---|---|---|---|
| 再表 2010-50450 | レーザ精錬装置及びレーザ精錬方法 | 株式会社エレクトラホールディングス | 2012年 3月29日 |
| 特表 2012-502636 | 懸滴プレート | ウニヴェルジテート チューリッヒ プロレクトラート エムエヌヴェー | 2012年 2月 2日 |
| 特表 2012-502007 | 強皮症の治療 | ウニベルシテート チューリッヒ プロレクトラート エムエヌヴェー | 2012年 1月26日 |
| 特開 2012-15013 | マグネシウム電池及びシステム | 株式会社エレクトラホールディングス | 2012年 1月19日 |
| 特表 2012-501020 | 調整可能な仮想現実システム | ウニヴェルジテート チューリッヒ プロレクトラート エムエヌヴェー | 2012年 1月12日 |
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2010-50450 2012-502636 2012-502007 2012-15013 2012-501020
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