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■ 2022年 出願公開件数ランキング 第1087位 23件
(2021年:第1863位 12件)
■ 2022年 特許取得件数ランキング 第1763位 11件
(2021年:第2213位 7件)
(ランキング更新日:2025年8月25日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
---|---|---|---|
特許 7171800 | 表面上の残渣を除去するための洗浄用製剤 | 2022年11月15日 | |
特許 7160485 | 剥離方法 | 2022年10月25日 | |
特許 7144576 | 洗浄組成物及びその使用方法 | 2022年 9月29日 | |
特許 7140686 | 誘電フィルム形成用組成物 | 2022年 9月21日 | |
特許 7140687 | 誘電フィルム形成用組成物 | 2022年 9月21日 | |
特許 7127936 | ポリイミド | 2022年 8月30日 | |
特許 7127937 | ポリイミド | 2022年 8月30日 | |
特許 7127938 | ポリイミド | 2022年 8月30日 | |
特許 7114842 | 半導体基板の残渣を除去するための洗浄用調合物 | 2022年 8月 9日 | |
特許 7077505 | 半導体基板上の残渣を除去するための洗浄組成物 | 2022年 5月31日 | |
特許 7074635 | 帯電した研磨剤を含有する研磨組成物 | 2022年 5月24日 |
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7171800 7160485 7144576 7140686 7140687 7127936 7127937 7127938 7114842 7077505 7074635
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