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 ■ 2023年 出願公開件数ランキング    第1102位 23件
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2022年:第1087位 23件)
		
 ■ 2023年 特許取得件数ランキング    第2186位 8件
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2022年:第1763位 11件)
		
(ランキング更新日:2025年11月4日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 | 
|---|---|---|---|
| 特許 7400013 | 半導体基板の残渣を除去するための洗浄用調合物 | 2023年12月18日 | |
| 特許 7384332 | 表面処理組成物及び表面処理方法 | 2023年11月21日 | |
| 特許 7351839 | ルテニウムバルクの化学機械研磨組成物 | 2023年 9月27日 | |
| 特許 7311229 | 洗浄用組成物 | 2023年 7月19日 | |
| 特許 7306608 | 高度な流体処理方法およびシステム | 2023年 7月11日 | |
| 特許 7235317 | 多層構造体 | 2023年 3月 8日 | |
| 特許 7235336 | 洗浄組成物 | 2023年 3月 8日 | |
| 特許 7209004 | ルテニウムバリアの化学機械研磨スラリー | 2023年 1月19日 | 
8 件中 1-8 件を表示
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7400013 7384332 7351839 7311229 7306608 7235317 7235336 7209004
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11月4日(火) -
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11月14日(金) - 東京 千代田区
11月14日(金) -
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