特許ランキング - 出願人詳細情報 -

フジフイルム　エレクトロニック　マテリアルズ　ユー．エス．エー．，　インコーポレイテッド

※ ログインすれば出願人(フジフイルム　エレクトロニック　マテリアルズ　ユー．エス．エー．，　インコーポレイテッド)をリストに登録できます。ログインについて

　■　2024年出願公開件数ランキング　　　第1476位　15件（2023年：第1102位　23件）

　■　2024年特許取得件数ランキング　　　第1531位　13件（2023年：第2186位　8件）

（ランキング更新日：2025年5月2日）筆頭出願人である出願のみカウントしています

2011年 2012年 2013年 2014年 2015年 2016年 2017年 2018年 2019年 2020年 2021年 2022年 2023年 2025年

フジフイルム　エレクトロニック　マテリアルズ　ユー．エス．エー．，　インコーポレイテッドの商標一覧

公報番号	発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)	公報発行日
特表 2024-544796	研磨済みウェハ上の欠陥を減少させる方法	2024年12月 4日
特表 2024-541266	研磨組成物及びその使用方法	2024年11月 8日
特表 2024-539352	研磨組成物及びその使用方法	2024年10月28日
特表 2024-536512	エッチング組成物	2024年10月 4日
特開 2024-129037	表面処理用組成物及び表面処理方法	2024年 9月26日
特開 2024-107331	エッチング組成物	2024年 8月 8日
特開 2024-103792	表面処理方法およびそのための組成物	2024年 8月 1日
特表 2024-529032	組成物及びその使用方法	2024年 8月 1日
特表 2024-523662	半導体エッチング液	2024年 6月28日
特開 2024-75001	エッチング組成物	2024年 5月31日
特表 2024-511506	研磨用組成物及びその使用方法	2024年 3月13日
特開 2024-19345	半導体基板の残渣を除去するための洗浄用調合物	2024年 2月 8日
特開 2024-9903	高度な流体処理方法およびシステム	2024年 1月23日
特表 2024-502232	化学機械研磨組成物及びその使用方法	2024年 1月18日
特表 2024-501226	化学機械研磨組成物及びその使用方法	2024年 1月11日

16 件中 1-15 件を表示

※ をクリックすると公報番号が選択状態になります。クリップボードにコピーする際にお使いください。

このページの公報番号をまとめてクリップボードにコピー

2024-544796 2024-541266 2024-539352 2024-536512 2024-129037 2024-107331 2024-103792 2024-529032 2024-523662 2024-75001 2024-511506 2024-19345 2024-9903 2024-502232 2024-501226

※ ログインすれば出願人をリストに登録できます。フジフイルム　エレクトロニック　マテリアルズ　ユー．エス．エー．，　インコーポレイテッドの知財の動向チェックに便利です。

ログインについて

ランキング一覧に戻る

特許ランキング

2025年特許出願件数	2025年特許取得件数
2023年特許出願件数	2023年特許取得件数
2022年特許出願件数	2022年特許取得件数
2021年特許出願件数	2021年特許取得件数
2020年特許出願件数	2020年特許取得件数
2019年特許出願件数	2019年特許取得件数
2018年特許出願件数	2018年特許取得件数
2017年特許出願件数	2017年特許取得件数
2016年特許出願件数	2016年特許取得件数
2015年特許出願件数	2015年特許取得件数
2014年特許出願件数	2014年特許取得件数
2013年特許出願件数	2013年特許取得件数
2012年特許出願件数	2012年特許取得件数
2011年特許出願件数	2011年特許取得件数