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■ 2011年 出願公開件数ランキング 第7099位 2件 (2010年:第7810位 2件)
■ 2011年 特許取得件数ランキング 第5986位 2件 (2010年:第22882位 0件)
(ランキング更新日:2025年1月31日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
---|---|---|---|
特許 4824024 | 耐熱性金属材料の放射率を増大させる方法、増大された放射率を有する放射加熱要素、ウエハキャリア用の耐熱性金属材料を作製する方法、及び熱吸収面用の材料を作製する方法 | 2011年11月24日 | |
特許 4714021 | 基板の表面に均一なエピタキシャル層を成長させる方法および回転ディスク式反応器 | 2011年 6月29日 |
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4824024 4714021
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2月4日(火) - 東京 港区
2月4日(火) - 神奈川 川崎市
2月4日(火) -
2月4日(火) -
2月5日(水) - 東京 港区
2月5日(水) -
2月5日(水) -
2月5日(水) -
2月6日(木) - 東京 港区
2月6日(木) -
2月7日(金) -
2月7日(金) - 東京 港区
2月7日(金) - 神奈川 横浜市
2月7日(金) -
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