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■ 2012年 出願公開件数ランキング 第2026位 11件
(
2011年:第1374位 18件)
■ 2012年 特許取得件数ランキング 第1281位 21件
(
2011年:第1627位 14件)
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| 公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 5105391 | 研磨パッド | 2012年12月26日 | |
| 特許 5057331 | 被研磨物保持具 | 2012年10月24日 | |
| 特許 5057325 | 研磨パッド | 2012年10月24日 | |
| 特許 5033357 | 研磨パッド | 2012年 9月26日 | |
| 特許 5036955 | 金属膜研磨組成物および金属膜の研磨方法 | 2012年 9月26日 | |
| 特許 5033356 | 研磨パッド | 2012年 9月26日 | |
| 特許 5022635 | 研磨パッド | 2012年 9月12日 | |
| 特許 5023099 | 研磨パッドおよび研磨装置 | 2012年 9月12日 | |
| 特許 5008651 | 研磨布 | 2012年 8月22日 | |
| 特許 4943800 | 研磨状況モニタシステム | 2012年 5月30日 | |
| 特許 4943978 | 研磨パッド用隙間充填剤の充填方法 | 2012年 5月30日 | |
| 特許 4943766 | 被加工物保持材およびその製造方法 | 2012年 5月30日 | |
| 特許 4937538 | 研磨布固定用の両面粘着テープおよびこれを備えた研磨布 | 2012年 5月23日 | |
| 特許 4926675 | 被加工物保持枠材および被加工物保持具 | 2012年 5月 9日 | |
| 特許 4918223 | シリコンウエハ研磨用組成物およびシリコンウエハの研磨方法 | 2012年 4月18日 |
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5105391 5057331 5057325 5033357 5036955 5033356 5022635 5023099 5008651 4943800 4943978 4943766 4937538 4926675 4918223
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