ホーム > 特許ランキング > アトテツク・ドイチユラント・ゲゼルシヤフト・ミツト・ベシユレンクテル・ハフツング > 2019年 > 出願公開一覧
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■ 2019年 出願公開件数ランキング 第1714位 13件
(
2018年:第1730位 12件)
■ 2019年 特許取得件数ランキング 第1440位 12件
(
2018年:第2192位 7件)
(ランキング更新日:2026年10月16日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特表 2019-532177 | 窒化ガリウム半導体の活性化されていない表面上へのパラジウムの直接的な堆積方法 | 2019年11月 7日 | |
| 特表 2019-529715 | クロム仕上げ表面の処理方法 | 2019年10月17日 | |
| 特表 2019-530233 | ウェハ状の基板を処理する方法、装置、および該装置の使用 | 2019年10月17日 | |
| 特表 2019-528378 | 基板に垂直電気金属成膜を行うための装置 | 2019年10月10日 | |
| 特表 2019-525006 | 電解銅めっきのための酸性水性組成物 | 2019年 9月 5日 | |
| 特表 2019-520480 | 金属表面の後処理用の水性組成物 | 2019年 7月18日 | |
| 特表 2019-519891 | 静電気放電ユニット | 2019年 7月11日 | |
| 特表 2019-516004 | 非水性剥離組成物、および基材から有機被覆を剥離する方法 | 2019年 6月13日 | |
| 特表 2019-515138 | 基板表面の活性化を含む基板表面に金属または金属合金を析出させるための方法 | 2019年 6月 6日 | |
| 特表 2019-512880 | リードフレーム構造体、リードフレーム、表面実装電子部品、およびこれらの製造方法 | 2019年 5月16日 | |
| 特表 2019-504928 | 水性インジウムまたはインジウム合金めっき浴、およびインジウムまたはインジウム合金の堆積方法 | 2019年 2月21日 | |
| 特表 2019-502824 | 銅および銅合金の表面用のエッチング溶液 | 2019年 1月31日 | |
| 特表 2019-500493 | パラジウムめっき浴組成物および無電解パラジウムめっき方法 | 2019年 1月10日 |
13 件中 1-13 件を表示
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2019-532177 2019-529715 2019-530233 2019-528378 2019-525006 2019-520480 2019-519891 2019-516004 2019-515138 2019-512880 2019-504928 2019-502824 2019-500493
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