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ズス・マイクロテック・リソグラフィ・ゲゼルシャフト・ミット・ベシュレンクテル・ハフツング
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■ 2016年 出願公開件数ランキング 第2281位 9件
（
2015年： 0件）
■ 2016年 特許取得件数ランキング 第9250位 1件
（2015年： 0件）
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ズス・マイクロテック・リソグラフィ・ゲゼルシャフト・ミット・ベシュレンクテル・ハフツングの商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特開 2016-224435 | 円盤状基板を取り扱う装置、及び支持アダプター | 2016年12月28日 | |
| 特開 2016-219791 | 基材にコーティングを施すための装置及び方法 | 2016年12月22日 | |
| 特開 2016-200277 | ウエハ処理装置およびウエハ処理装置用のシーリングリング | 2016年12月 1日 | |
| 特開 2016-194673 | フォトリソグラフィ露光システムの光源の調整方法およびフォトリソグラフィデバイス用の露光アセンブリ | 2016年11月17日 | |
| 特表 2016-532282 | ウエハを吸引し保持するためのチャック | 2016年10月13日 | |
| 特開 2016-119452 | 溶媒含有コーティングでコーティングされたウエハのためのベーキングデバイス | 2016年 6月30日 | |
| 特開 2016-107258 | ラッカーで基板を被覆する方法およびラッカー層を平坦化するための装置 | 2016年 6月20日 | |
| 特開 2016-106404 | 一時的にボンディングされたウエハをデボンディングするための改善された装置と方法 | 2016年 6月16日 | |
| 特開 2016-104475 | 基板を被覆する方法および被覆装置 | 2016年 6月 9日 |
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2016-224435 2016-219791 2016-200277 2016-194673 2016-532282 2016-119452 2016-107258 2016-106404 2016-104475
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