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アセルタ ナノグラフィクス
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■ 2018年 出願公開件数ランキング 第5373位 3件
（
2017年：第5643位 3件）
■ 2018年 特許取得件数ランキング 第5366位 2件
（2017年：第8798位 1件）
（ランキング更新日：2025年2月17日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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アセルタ ナノグラフィクスの商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 6364507 | ＩＣ製造工程の数値指標を計算する方法 | 2018年 7月25日 | |
| 特許 6336272 | 電子ビーム・リソグラフィによってプレートまたはマスク上に印刷されるパターンを推定する方法、および対応する印刷装置 | 2018年 6月 6日 | |
| 特許 6321109 | 粒子ビームまたは光子ビームによる直接描画時のショット計数を低減させる方法 | 2018年 5月 9日 | |
| 特許 6306061 | 電子または光リソグラフィ用の任意形状の分割方法 | 2018年 4月 4日 |
4 件中 1-4 件を表示
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6364507 6336272 6321109 6306061
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パテントマップを用いた知財戦略の策定方法 －自社が勝つパテントマップ作成と それを活用した開発戦略・知財戦略の実践方法－ ＜東京会場受講（対面）／Zoomオンライン受講 選択可＞ ＜見逃し視聴選択可＞
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（オンライン参加可）体験談から学ぶ知的財産権 その時どうする？～海外で商標権がバッティング？オープンファクトリーの知財リスク？～
2月25日(火) -
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