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■ 2018年 出願公開件数ランキング 第5373位 3件 (2017年:第5643位 3件)
■ 2018年 特許取得件数ランキング 第5366位 2件 (2017年:第8798位 1件)
(ランキング更新日:2024年9月27日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
---|---|---|---|
特許 6364507 | IC製造工程の数値指標を計算する方法 | 2018年 7月25日 | |
特許 6336272 | 電子ビーム・リソグラフィによってプレートまたはマスク上に印刷されるパターンを推定する方法、および対応する印刷装置 | 2018年 6月 6日 | |
特許 6321109 | 粒子ビームまたは光子ビームによる直接描画時のショット計数を低減させる方法 | 2018年 5月 9日 | |
特許 6306061 | 電子または光リソグラフィ用の任意形状の分割方法 | 2018年 4月 4日 |
4 件中 1-4 件を表示
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6364507 6336272 6321109 6306061
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