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アセルタ ナノグラフィクス
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■ 2019年 出願公開件数ランキング 第34904位 0件
（
2018年：第5373位 3件）
■ 2019年 特許取得件数ランキング 第2101位 7件
（
2018年：第5366位 2件）
（ランキング更新日：2026年1月23日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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アセルタ ナノグラフィクスの商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 6564932 | 特に電子ビームリソグラフィのために線量変調を実行する方法 | 2019年 8月21日 | |
| 特許 6518770 | 頂点ベース補正を半導体デザインに適用する方法 | 2019年 5月22日 | |
| 特許 6480450 | 電子近接効果の補正のための方法 | 2019年 3月13日 | |
| 特許 6469675 | レジスト閾値制御を使用した電子又は光リソグラフィ用のフリーフォーム断片化方法 | 2019年 2月13日 | |
| 特許 6462849 | ＩＣ製造プロセスモデルのパラメータを決定するための方法 | 2019年 2月 6日 | |
| 特許 6453311 | 複雑な成形に適用可能な放射エネルギーおよび形状の複合的な最適化によるリソグラフィ方法 | 2019年 1月16日 | |
| 特許 6449336 | 差分手順によりＩＣ製造プロセスのパラメータを判断する方法 | 2019年 1月 9日 |
7 件中 1-7 件を表示
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6564932 6518770 6480450 6469675 6462849 6453311 6449336
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