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アセルタ ナノグラフィクス

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  2019年 出願公開件数ランキング    第34904位 0件 下降2018年:第5373位 3件)

  2019年 特許取得件数ランキング    第2101位 7件 上昇2018年:第5366位 2件)

(ランキング更新日:2025年2月17日)筆頭出願人である出願のみカウントしています

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公報番号発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)公報発行日備考
特許 6564932 特に電子ビームリソグラフィのために線量変調を実行する方法 2019年 8月21日
特許 6518770 頂点ベース補正を半導体デザインに適用する方法 2019年 5月22日
特許 6480450 電子近接効果の補正のための方法 2019年 3月13日
特許 6469675 レジスト閾値制御を使用した電子又は光リソグラフィ用のフリーフォーム断片化方法 2019年 2月13日
特許 6462849 IC製造プロセスモデルのパラメータを決定するための方法 2019年 2月 6日
特許 6453311 複雑な成形に適用可能な放射エネルギーおよび形状の複合的な最適化によるリソグラフィ方法 2019年 1月16日
特許 6449336 差分手順によりIC製造プロセスのパラメータを判断する方法 2019年 1月 9日

7 件中 1-7 件を表示

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6564932 6518770 6480450 6469675 6462849 6453311 6449336

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