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■ 2024年 出願公開件数ランキング 第2815位 5件 (2023年:第8309位 2件)
■ 2024年 特許取得件数ランキング 第8320位 1件 (2023年:第6302位 2件)
(ランキング更新日:2024年9月30日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
---|---|---|---|
特開 2024-115519 | オーバーレイ測定装置及び方法 | 2024年 8月26日 | |
特開 2024-110401 | 高精度のピクセルキャリブレーション装置及び方法 | 2024年 8月15日 | |
特表 2024-522325 | オーバーレイ測定装置 | 2024年 6月18日 | |
特開 2024-59066 | モアレパターンを形成するオーバーレイマーク、これを用いたオーバーレイ測定方法、オーバーレイ測定装置、及び半導体素子の製造方法 | 2024年 4月30日 | |
特表 2024-512852 | モアレパターンを形成するオーバーレイマーク、これを用いたオーバーレイ測定方法、及び半導体素子の製造方法 | 2024年 3月21日 |
5 件中 1-5 件を表示
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2024-115519 2024-110401 2024-522325 2024-59066 2024-512852
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