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野村マイクロ・サイエンス株式会社
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■ 2011年 出願公開件数ランキング 第1852位 12件
（
2010年：第1579位 17件）
■ 2011年 特許取得件数ランキング 第2389位 8件
（2010年：第1321位 16件）
（ランキング更新日：2025年4月4日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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野村マイクロ・サイエンス株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 4844912 | フォトレジストの除去方法及び除去装置 | 2011年12月28日 | |
| 特許 4841538 | 濾過方法及び濾過装置 | 2011年12月21日 | |
| 特許 4834314 | 炭酸エチレンの再生方法及び再生装置 | 2011年12月14日 | |
| 特許 4823881 | 半導体用研磨スラリー中の異物検査方法及び異物検査装置 | 2011年11月24日 | |
| 特許 4745326 | 超純水中の微粒子数測定方法、微粒子数測定用ろ過装置、その製造方法及びその装置に用いる中空糸膜ユニット | 2011年 8月10日 | 共同出願 |
| 特許 4712665 | 純水製造方法及び純水製造装置 | 2011年 6月29日 | |
| 特許 4644120 | 半導体研磨スラリー精製用素材、半導体研磨スラリー精製用モジュールおよび半導体研磨スラリーの精製方法 | 2011年 3月 2日 | 共同出願 |
| 特許 4617504 | 洗浄装置 | 2011年 1月26日 |
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4844912 4841538 4834314 4823881 4745326 4712665 4644120 4617504
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