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■ 2013年 出願公開件数ランキング 第2284位 10件 (2012年:第2494位 8件)
■ 2013年 特許取得件数ランキング 第1588位 15件 (2012年:第1784位 13件)
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公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
---|---|---|---|
特許 5362891 | 電気化学センサー、電気化学的検出装置及び電気化学的検出方法 | 2013年12月11日 | |
特許 5358266 | 排スラリー中の有用固形成分の回収方法 | 2013年12月 4日 | |
特許 5336894 | フォトレジスト除去装置 | 2013年11月 6日 | |
特許 5336926 | 精製水の製造方法及び精製水の製造装置 | 2013年11月 6日 | |
特許 5318723 | 電気化学センサー用電極の製造方法、及び電気化学センサー用電極の使用方法 | 2013年10月16日 | |
特許 5311227 | 陰イオン交換体、その前処理方法及び再生方法並びにアルカリ水溶液の精製方法及び精製装置 | 2013年10月 9日 | 共同出願 |
特許 5307049 | 医薬用精製水の製造方法、及び医薬品用精製水の製造装置 | 2013年10月 2日 | |
特許 5289833 | 電子部品用シリコンの加工方法及び再生方法 | 2013年 9月11日 | |
特許 5280280 | フォトレジスト除去装置 | 2013年 9月 4日 | |
特許 5280038 | 超純水製造装置 | 2013年 9月 4日 | |
特許 5261090 | シリコン含有排水の処理方法及び装置 | 2013年 8月14日 | 共同出願 |
特許 5248209 | 薬液回収装置及び薬液回収方法 | 2013年 7月31日 | |
特許 5208397 | 水処理方法及び水処理装置 | 2013年 6月12日 | |
特許 5189193 | 超純水製造システムの運転方法 | 2013年 4月24日 | |
特許 5184401 | 純水製造方法及び純水製造装置 | 2013年 4月17日 |
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5362891 5358266 5336894 5336926 5318723 5311227 5307049 5289833 5280280 5280038 5261090 5248209 5208397 5189193 5184401
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2月4日(火) - 東京 港区
2月4日(火) - 神奈川 川崎市
2月4日(火) -
2月4日(火) -
2月5日(水) - 東京 港区
2月5日(水) -
2月5日(水) -
2月5日(水) -
2月6日(木) - 東京 港区
2月6日(木) -
2月7日(金) -
2月7日(金) - 東京 港区
2月7日(金) - 神奈川 横浜市
2月7日(金) -
2月13日(木) - 岐阜 大垣市
2月13日(木) -
2月13日(木) -
2月13日(木) - 神奈川 綾瀬市
2月13日(木) -
2月13日(木) -
2月14日(金) - 東京 大田
<エンジニア(技術者)および研究開発担当(R&D部門)向け> 基礎から学ぶ/自分で行うIPランドスケープ®の活用・実践 <東京会場受講(対面)/Zoomオンライン受講 選択可> <見逃し視聴選択可>
2月14日(金) - 東京 千代田区
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