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■ 2016年 出願公開件数ランキング 第3542位 5件 (2015年:第7196位 2件)
■ 2016年 特許取得件数ランキング 第4304位 3件 (2015年:第5375位 2件)
(ランキング更新日:2024年9月20日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特開 2016-178271 | 垂直キャビティ表面発光レーザ | 2016年10月 6日 | |
特開 2016-149478 | 薄膜圧電体基板、薄膜圧電体素子およびその製造方法並びにそれを有するヘッドジンバルアセンブリ、ハードディスク装置、インクジェットヘッド、可変焦点レンズおよびセンサ | 2016年 8月18日 | |
特開 2016-146223 | 光源ユニットとこれを用いた熱アシスト磁気記録ヘッド、及び光源ユニットに用いられる光源 | 2016年 8月12日 | |
特開 2016-91023 | ウェハレベルパッケージングされた光学サブアセンブリ及びそれを有する送受信モジュール | 2016年 5月23日 | |
特開 2016-72589 | 薄膜圧電体素子およびその製造方法並びにそれを有するヘッドジンバルアセンブリ、ハードディスク装置、インクジェットヘッド、可変焦点レンズおよびセンサ | 2016年 5月 9日 | |
特開 2016-66822 | 強誘電体結晶膜及びその製造方法 | 2016年 4月28日 |
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2016-178271 2016-149478 2016-146223 2016-91023 2016-72589 2016-66822
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最新の制度改正を反映 海外の特許制度と実務上の留意点(米国・欧州(EPC)・中国)~米国ならびに EPC (欧州特許条約)・中国の各制度の下でのグローバル特許取得の基本的な知識と留意点を解説します~
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