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アーゼッド・エレクトロニック・マテリアルズ（ルクセンブルグ）ソシエテ・ア・レスポンサビリテ・リミテ

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アーゼッド・エレクトロニック・マテリアルズ（ルクセンブルグ）ソシエテ・ア・レスポンサビリテ・リミテの商標一覧

公報番号	発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)	公報発行日
特許 6579952	ネガ型厚膜フォトレジスト	2019年 9月25日
特許 6573876	空隙形成用組成物、その組成物を用いて形成された空隙を具備した半導体装置、およびその組成物を用いた半導体装置の製造方法	2019年 9月11日
特許 6571296	緻密なシリカ質膜形成用組成物	2019年 9月 4日
特許 6553074	レジストパターン処理用組成物およびそれを用いたパターン形成方法	2019年 7月31日
特許 6538284	感光性シロキサン組成物	2019年 7月 3日
特許 6533629	リンス組成物、レジストパターンの形成方法および半導体素子の製造方法	2019年 6月19日
特許 6529966	上層膜形成用組成物およびそれを用いたレジストパターン形成方法	2019年 6月12日
特許 6513399	ネガ型感光性シロキサン組成物	2019年 5月15日
特許 6509496	下層膜形成用組成物	2019年 5月 8日
特許 6501759	自己組織化のためのテンプレート及び自己組織化パターンを製造する方法	2019年 4月17日
特許 6495167	レジスト下層膜形成用組成物	2019年 4月 3日
特許 6487126	ポジ型感光性シロキサン組成物	2019年 3月20日
特許 6487942	反射防止コーティング組成物およびその製造方法	2019年 3月20日
特許 6487947	ポジ型感光性シロキサン組成物、アクティブマトリクス基板、表示装置、及びアクティブマトリクス基板の製造方法	2019年 3月20日
特許 6480691	ケイ素含有熱または光硬化性組成物	2019年 3月13日

18 件中 1-15 件を表示

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6579952 6573876 6571296 6553074 6538284 6533629 6529966 6513399 6509496 6501759 6495167 6487126 6487942 6487947 6480691

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