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アーゼッド・エレクトロニック・マテリアルズ(ルクセンブルグ)ソシエテ・ア・レスポンサビリテ・リミテ

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  2019年 出願公開件数ランキング    第1468位 17件 下降2018年:第1352位 18件)

  2019年 特許取得件数ランキング    第1108位 17件 上昇2018年:第1989位 8件)

(ランキング更新日:2025年10月31日)筆頭出願人である出願のみカウントしています

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公報番号発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)公報発行日備考
特表 2019-526649 ブラックマトリックス用組成物、およびそれを用いたブラックマトリックスの製造方法 2019年 9月19日
特開 2019-159330 感光性シロキサン組成物 2019年 9月19日
特表 2019-524931 LED封止材料のための配合物 2019年 9月 5日
特表 2019-523318 LED封止材料のための配合物 2019年 8月22日
特表 2019-519804 リンス組成物、レジストパターンの形成方法および半導体素子の製造方法 2019年 7月11日
特表 2019-518811 緻密なシリカ質膜形成用組成物 2019年 7月 4日
特表 2019-514037 微細パターン形成用組成物およびそれを用いた微細パターン形成方法 2019年 5月30日
特表 2019-514072 ポジ作動型感光性材料 2019年 5月30日
特表 2019-511737 低温硬化可能なネガ型感光性組成物 2019年 4月25日
特表 2019-510992 低温硬化可能なネガ型感光性組成物 2019年 4月18日
特表 2019-508509 金属酸化物を含有する材料、その製造方法及びその使用方法 2019年 3月28日
特表 2019-508752 レーザーアブレーション用ネガティブワーキングフォトレジスト組成物及びその使用 2019年 3月28日
特表 2019-507373 表面処理用組成物およびそれを用いたレジストパターンの表面処理方法 2019年 3月14日
特表 2019-506482 ポリマー、組成物、犠牲層の形成、およびそれらを用いた半導体装置の方法 2019年 3月 7日
特表 2019-505650 新規組成物及び基材表面の変性のためのそれの使用 2019年 2月28日

17 件中 1-15 件を表示

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2019-526649 2019-159330 2019-524931 2019-523318 2019-519804 2019-518811 2019-514037 2019-514072 2019-511737 2019-510992 2019-508509 2019-508752 2019-507373 2019-506482 2019-505650

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