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アーゼッド・エレクトロニック・マテリアルズ（ルクセンブルグ）ソシエテ・ア・レスポンサビリテ・リミテ
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2018年：第1274位 18件）
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アーゼッド・エレクトロニック・マテリアルズ（ルクセンブルグ）ソシエテ・ア・レスポンサビリテ・リミテの商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特開 2019-159330 | 感光性シロキサン組成物 | 2019年 9月19日 | |
| 特表 2019-526649 | ブラックマトリックス用組成物、およびそれを用いたブラックマトリックスの製造方法 | 2019年 9月19日 | |
| 特表 2019-524931 | ＬＥＤ封止材料のための配合物 | 2019年 9月 5日 | |
| 特表 2019-523318 | ＬＥＤ封止材料のための配合物 | 2019年 8月22日 | |
| 特表 2019-519804 | リンス組成物、レジストパターンの形成方法および半導体素子の製造方法 | 2019年 7月11日 | |
| 特表 2019-518811 | 緻密なシリカ質膜形成用組成物 | 2019年 7月 4日 | |
| 特表 2019-514072 | ポジ作動型感光性材料 | 2019年 5月30日 | |
| 特表 2019-514037 | 微細パターン形成用組成物およびそれを用いた微細パターン形成方法 | 2019年 5月30日 | |
| 特表 2019-511737 | 低温硬化可能なネガ型感光性組成物 | 2019年 4月25日 | |
| 特表 2019-510992 | 低温硬化可能なネガ型感光性組成物 | 2019年 4月18日 | |
| 特表 2019-508752 | レーザーアブレーション用ネガティブワーキングフォトレジスト組成物及びその使用 | 2019年 3月28日 | |
| 特表 2019-508509 | 金属酸化物を含有する材料、その製造方法及びその使用方法 | 2019年 3月28日 | |
| 特表 2019-507373 | 表面処理用組成物およびそれを用いたレジストパターンの表面処理方法 | 2019年 3月14日 | |
| 特表 2019-506482 | ポリマー、組成物、犠牲層の形成、およびそれらを用いた半導体装置の方法 | 2019年 3月 7日 | |
| 特表 2019-505650 | 新規組成物及び基材表面の変性のためのそれの使用 | 2019年 2月28日 |
17 件中 1-15 件を表示
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2019-159330 2019-526649 2019-524931 2019-523318 2019-519804 2019-518811 2019-514072 2019-514037 2019-511737 2019-510992 2019-508752 2019-508509 2019-507373 2019-506482 2019-505650
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