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アーゼッド・エレクトロニック・マテリアルズ（ルクセンブルグ）ソシエテ・ア・レスポンサビリテ・リミテ
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（
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アーゼッド・エレクトロニック・マテリアルズ（ルクセンブルグ）ソシエテ・ア・レスポンサビリテ・リミテの商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 6255210 | レジスト下層膜形成組成物 | 2017年12月27日 | |
| 特許 6248121 | ポジ作動型感光性材料 | 2017年12月13日 | |
| 特許 6237279 | 保護膜を具備する薄膜トランジスタ基板およびその製造方法 | 2017年11月29日 | |
| 特許 6239833 | 微細レジストパターン形成用組成物およびそれを用いたパターン形成方法 | 2017年11月29日 | |
| 特許 6240404 | リソグラフィー用リンス液およびそれを用いたパターン形成方法 | 2017年11月29日 | |
| 特許 6219379 | 誘導自己組織化のための中性層ポリマー組成物及びその方法 | 2017年10月25日 | |
| 特許 6195786 | 熱分解可能な充填用組成物、ならびにその組成物を用いて形成された空隙を具備した半導体装置、およびその組成物を用いた半導体装置の製造方法 | 2017年 9月13日 | |
| 特許 6181294 | 自己組織化を促進するための下層組成物及び製造及び使用法 | 2017年 8月16日 | |
| 特許 6182164 | ブロックコポリマーの金属除去のための方法および材料 | 2017年 8月16日 | |
| 特許 6157151 | 微細レジストパターン形成用組成物およびそれを用いたパターン形成方法 | 2017年 7月 5日 | |
| 特許 6157160 | 上層膜形成用組成物およびそれを用いたレジストパターン形成方法 | 2017年 7月 5日 | |
| 特許 6157605 | ポジ型感光性材料 | 2017年 7月 5日 | |
| 特許 6154653 | リソグラフィー用現像またはリンス液およびそれを用いたパターン形成方法 | 2017年 6月28日 | |
| 特許 6137862 | ネガ型感光性シロキサン組成物 | 2017年 5月31日 | |
| 特許 6104785 | ペルヒドロポリシラザン、およびそれを含む組成物、ならびにそれを用いたシリカ質膜の形成方法 | 2017年 3月29日 |
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6255210 6248121 6237279 6239833 6240404 6219379 6195786 6181294 6182164 6157151 6157160 6157605 6154653 6137862 6104785
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